x射線光電子能譜分析 和 x射線x

本專題涉及x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)有327條。

國際標(biāo)準(zhǔn)分類中，x射線光電子能譜分析 和 x射線x涉及到分析化學(xué)、光學(xué)和光學(xué)測量、詞匯、核能工程、電站綜合、黑色金屬、無損檢測、金屬礦、鋼鐵產(chǎn)品、建筑材料、長度和角度測量、金屬材料試驗(yàn)、有色金屬、耐火材料、光學(xué)設(shè)備、鐵合金、涂料配料、半導(dǎo)體材料、醫(yī)學(xué)科學(xué)和保健裝置綜合、輻射測量、輻射防護(hù)、電子元器件綜合、粒度分析、篩分、采礦設(shè)備、電學(xué)、磁學(xué)、電和磁的測量、職業(yè)安全、工業(yè)衛(wèi)生、天文學(xué)、大地測量學(xué)、地理學(xué)、電子管、犯罪行為防范、非金屬礦、醫(yī)療設(shè)備。

在中國標(biāo)準(zhǔn)分類中，x射線光電子能譜分析 和 x射線x涉及到質(zhì)譜儀、液譜儀、能譜儀及其聯(lián)用裝置、基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器、同位素與放射源綜合、電力試驗(yàn)技術(shù)、鋼鐵與鐵合金分析方法、鐵礦、金屬化學(xué)分析方法綜合、化學(xué)、耐火材料綜合、重金屬及其合金分析方法、化學(xué)試劑綜合、稀有輕金屬及其合金、建材產(chǎn)品綜合、涂料基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、、實(shí)驗(yàn)室基礎(chǔ)設(shè)備、金屬無損檢驗(yàn)方法、放射源、水泥、Ｘ射線、磁粉、熒光及其他探傷儀器、鋼鐵產(chǎn)品綜合、電化學(xué)、熱化學(xué)、光學(xué)式分析儀器、稀有金屬及其合金分析方法、核儀器與核探測器綜合、通用核儀器、光學(xué)測試儀器、標(biāo)準(zhǔn)化、質(zhì)量管理、不定型耐火材料、定型隔熱耐火材料、半導(dǎo)體分立器件綜合、有色金屬礦綜合、顏料、篩分、篩板與篩網(wǎng)、建井設(shè)備、電子測量與儀器綜合、輻射防護(hù)儀器、放射衛(wèi)生防護(hù)、其他電真空器件、化學(xué)計(jì)量、犯罪鑒定技術(shù)、石油地質(zhì)勘探、建材原料礦、醫(yī)用射線設(shè)備、輕金屬及其合金分析方法。

德國標(biāo)準(zhǔn)化學(xué)會，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• DIN ISO 16129:2020-11 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 X射線光電子能譜儀日常性能評估程序
• DIN ISO 16129 E:2020-01 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜-評估X射線光電子能譜儀的日常性能的程序
• DIN 51418-1:1996 X光射線光譜測定法.X光射線散射和X光射線熒光分析(RFA).第1部分:定義和基本原理
• DIN 51418-1:2008 X射線光譜測定法.X射線散射和X射線熒光分析(XRF).第1部分:定義和基本原理
• DIN 51418-1 E:2007 X 射線光譜測定 X 射線發(fā)射和 X 射線熒光分析 (XRF) 第1部分：定義和基本原理 草案
• DIN 51418-2:2015 X射線光譜分析.X射線散射和X射線熒光分析(RFA).第2部分:定義和測量、校準(zhǔn)及評估的基本原則
• DIN 51418-2:1996 X射線光譜分析.X射線散射和X射線熒光分析(RFA).第2部分:定義和測量、校準(zhǔn)及評估的基本原則
• DIN ISO 16129:2020 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜-評估X射線光電子能譜儀的日常性能的程序(ISO 16129-2018); 英文文本
• DIN 51418-1:2008-08 射線光譜測定 X 射線發(fā)射和 X 射線熒光分析(XRF)第1部分：定義和基本原理
• DIN ISO 15472 E:2019-09 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜儀 能標(biāo)校準(zhǔn)
• DIN ISO 16129 E:2020 文件草案 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜 X 射線光電子能譜儀日常性能評估程序（ISO 16129:2018） 英文文本
• DIN 51418-2:2015-03 X 射線光譜測定 X 射線發(fā)射和 X 射線熒光分析(XRF)第2部分：測量、校準(zhǔn)和結(jié)果評估的定義和基本原則
• DIN 51418-2 E:2014 X 射線光譜測定 X 射線發(fā)射和 X 射線熒光分析 (XRF) 第2部分：測量、校準(zhǔn)和結(jié)果評估的定義和基本原則 草案
• DIN ISO 15472:2020-05 表面化學(xué)分析 - X 射線光電子能譜儀 - 能量標(biāo)度校準(zhǔn) (ISO 15472:2010)
• DIN 51418-2 E:2014-06 Ｘ射線光譜測定 X 射線發(fā)射和 X 射線熒光分析(XRF)第2部分：測量、校準(zhǔn)和結(jié)果評估的定義和基本原則
• DIN ISO 15472:2020 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜儀 能標(biāo)校準(zhǔn)（ISO 15472:2010）；英文文本
• DIN EN ISO 29581-2 E:2007-07 水泥化學(xué)分析方法 第2部分：X射線熒光光譜分析
• DIN 51418-2 Bb.1:2000 X射線光度法.X射線散射和X射線熒光分析(XRF).第2部分:定義和測量、校準(zhǔn)及對結(jié)果評定的基本原理.附加信息和計(jì)算范例
• DIN IEC 62495:2011 核儀器.使用微型X射線管的便攜式X射線熒光分析設(shè)備(IEC 62495-2011)
• DIN 6845-1:1980 測試防護(hù)材料對X射線和γ射線的防護(hù)性能 X射線至400 kV

英國標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• BS ISO 16129:2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 X 射線光電子能譜儀日常性能評估程序
• BS ISO 16129:2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能光譜學(xué).X射線光電子能譜儀日常性能評估規(guī)程
• BS ISO 10810:2019 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南
• BS ISO 10810:2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析指南
• BS ISO 18554:2016 表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進(jìn)行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序
• BS ISO 21270:2004(2010) 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度標(biāo)度線性度
• BS ISO 21270:2004 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度尺度的線性
• BS ISO 15472:2001 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀 能量標(biāo)度的校準(zhǔn)
• BS ISO 18516:2006(2010) 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率的測定
• BS ISO 14701:2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 氧化硅厚度的測量
• BS ISO 19830:2015 表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的最低報(bào)告要求
• BS ISO 21270:2005 表面化學(xué)分析.X射線光電子和俄歇電子光譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性度
• BS ISO 16243:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)
• BS ISO 14701:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).二氧化硅厚度測量
• BS ISO 13424:2013 表面化學(xué)分析.X射線光譜.薄膜分析報(bào)表
• BS ISO 15470:2004 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 所選儀器性能參數(shù)的描述
• BS ISO 18516:2006 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測定
• BS ISO 15472:2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子分光計(jì).能量等級的校準(zhǔn)
• BS ISO 17867:2015 粒徑分析. 小角X射線散射
• BS ISO 17470:2004 微束分析 電子探針微分析 波長色散X射線光譜定性點(diǎn)分析指南
• BS PD ISO/TR 19319:2003 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 分析儀橫向分辨率、分析面積和樣品面積的測定
• BS ISO 20289:2018 表面化學(xué)分析 水的全反射X射線熒光分析
• DD ISO/TS 13762:2001 粒度分析 小角X射線散射法
• BS ISO 17867:2020 粒度分析 小角 X 射線散射 (SAXS)
• BS DD ISO/TS 13762:2001 粒度分析 小角X射線散射法
• BS ISO 19318:2021 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 報(bào)告用于電荷控制和電荷校正的方法

國際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• ISO 16129:2018 表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜 - 評估X射線光電子能譜儀日常性能的方法
• ISO 16129:2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能光譜學(xué).X射線光電子能譜儀日常性能評估規(guī)程
• ISO 10810:2019 表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜分析指南
• ISO 10810:2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).分析導(dǎo)則
• ISO 18554:2016 表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進(jìn)行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序
• ISO 21270:2004 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性
• ISO 13424:2013 表面化學(xué)分析——X射線光電子能譜；薄膜分析結(jié)果的報(bào)告
• ISO/CD TR 18392:2023 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜 確定背景的程序
• ISO 15472:2001/DAmd 1 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜儀 能量校準(zhǔn) 修改件1
• ISO 14701:2018 表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜 - 氧化硅厚度的測量
• ISO/TR 18392:2005 表面化學(xué)分析.X射線光電子光譜學(xué).背景測定程序
• ISO 15470:2017 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜. 選擇儀器性能參數(shù)說明
• ISO 16243:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)
• ISO 19830:2015 表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的最低報(bào)告要求
• ISO 14701:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.二氧化硅厚度的測量
• ISO 15472:2010 表面化學(xué)分析.X射線光電譜儀.能量刻度表校準(zhǔn)
• ISO 15472:2001 表面化學(xué)分析 X射線光電譜儀 能量刻度表校準(zhǔn)
• ISO 18516:2006 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測定
• ISO 17867:2015 粒徑分析. 小角X射線散射
• ISO 24237:2005 表面化學(xué)分析.X射線光電子光譜法.強(qiáng)度的可重復(fù)性和穩(wěn)定性
• ISO 20289:2018 表面化學(xué)分析.水的全反射X射線熒光分析

GSO，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• OS GSO ISO 16129:2014 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 評估X射線光電子能譜儀日常性能的程序
• GSO ISO 10810:2013 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析說明
• OS GSO ISO 10810:2013 表面化學(xué)分析X射線光電子能譜分析指南
• GSO ISO 16129:2014 表面化學(xué)分析 納米 X 射線光譜 評估納米 X 射線光譜日常性能的程序
• OS GSO ISO 18554:2017 表面化學(xué)分析 電子能譜 在接受X射線光電子能譜分析的材料中識別、估計(jì)和校正X射線意外降解的程序
• GSO ISO 18554:2017 表面化學(xué)分析 電子能譜 在接受X射線光電子能譜分析的材料中識別、估計(jì)和校正X射線意外降解的程序
• OS GSO ISO 13424:2015 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果報(bào)告
• GSO ISO 13424:2015 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果報(bào)告
• GSO ISO 21270:2014 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度標(biāo)度的線性
• GSO ISO 14701:2013 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 氧化硅厚度測量
• OS GSO ISO 21270:2014 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度標(biāo)度的線性
• GSO ISO 15472:2013 表面化學(xué)分析 X射線光譜 能量計(jì)校準(zhǔn)
• GSO ISO/TR 18392:2013 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 確定背景的程序
• OS GSO ISO 18516:2013 表面化學(xué)分析俄歇電子能譜和X射線光電子能譜橫向分辨率的測定
• GSO ISO 18516:2013 表面化學(xué)分析俄歇電子能譜和X射線光電子能譜橫向分辨率的測定
• OS GSO ISO 16243:2015 表面化學(xué)分析 在 X 射線光電子能譜 (XPS) 中記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)
• GSO ISO 19830:2016 表面化學(xué)分析 電子能譜 X射線光電子能譜峰擬合的最低報(bào)告要求
• GSO ISO 16243:2015 表面化學(xué)分析 在 X 射線光電子能譜 (XPS) 中記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)
• GSO ISO 15470:2013 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 有用性能參數(shù)的描述和選擇
• OS GSO IEC 62495:2014 核儀器 采用微型 X 射線管的便攜式 X 射線熒光分析設(shè)備
• GSO ISO 24237:2013 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 強(qiáng)度標(biāo)度的重復(fù)性和穩(wěn)定性
• OS GSO ISO 19318:2013 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 電荷控制和電荷校正方法的報(bào)告
• GSO ISO 17867:2017 粒度分析 小角X射線散射
• OS GSO ISO 17867:2017 粒度分析 小角X射線散射

巴林國家計(jì)量局，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• BH GSO ISO 16129:2015 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 評估X射線光電子能譜儀日常性能的程序
• BH GSO ISO 10810:2016 表面化學(xué)分析X射線光電子能譜分析指南
• BH GSO ISO 13424:2017 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果報(bào)告
• BH GSO ISO 21270:2016 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度標(biāo)度的線性
• BH GSO ISO 15472:2016 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀 能量標(biāo)度的校準(zhǔn)
• BH GSO ISO 18516:2016 表面化學(xué)分析俄歇電子能譜和X射線光電子能譜橫向分辨率的測定
• BH GSO ISO 19830:2017 表面化學(xué)分析 電子能譜 X射線光電子能譜峰擬合的最低報(bào)告要求
• BH GSO ISO 16243:2017 表面化學(xué)分析 在 X 射線光電子能譜 (XPS) 中記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)
• BH GSO IEC 62495:2016 核儀器 采用微型 X 射線管的便攜式 X 射線熒光分析設(shè)備
• BH GSO ISO 19318:2016 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 電荷控制和電荷校正方法的報(bào)告
• BH GSO ISO 17470:2017 微束分析 電子探針微量分析 波長色散X射線光譜定性點(diǎn)分析指南

國家質(zhì)檢總局，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• GB/T 19500-2004 X射線光電子能譜分析方法通則
• GB/T 30704-2014 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南
• GB/T 25184-2010 X射線光電子能譜儀鑒定方法
• GB/T 21006-2007 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度標(biāo)的線性
• GB/Z 32490-2016 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 確定本底的程序
• GB/T 28632-2012 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.橫向分辨率測定
• GB/T 22571-2008 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜儀.能量標(biāo)尺的校準(zhǔn)
• GB/T 17359-1998 電子探針和掃描電鏡X射線能譜定量分析通則
• GB/T 42360-2023 表面化學(xué)分析 水的全反射X射線熒光光譜分析
• GB/T 28892-2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.選擇儀器性能參數(shù)的表述
• GB/T 19140-2003 水泥X射線熒光分析通則
• GB/T 28892-2024 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 選擇儀器性能參數(shù)的表述
• GB/T 28633-2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.強(qiáng)度標(biāo)的重復(fù)性和一致性
• GB/T 18873-2008 生物薄試樣的透射電子顯微鏡-X射線能譜定量分析通則
• GB/T 18873-2002 生物薄試樣的透射電子顯微鏡-X射線 能譜定量分析通則
• GB/T 17362-2008 黃金制品的掃描電鏡X射線能譜分析方法
• GB/T 17362-1998 黃金飾品的掃描電鏡X射線能譜分析方法
• GB/T 16597-1996 冶金產(chǎn)品分析方法 X射線熒光光譜法通則
• GB/T 25185-2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.荷電控制和荷電校正方法的報(bào)告
• GB 16355-1996 X射線衍射儀和熒光分析儀放射防護(hù)標(biāo)準(zhǔn)
• GB/T 11685-2003 半導(dǎo)體X射線探測器系統(tǒng)和半導(dǎo)體X射線能譜儀的測量方法
• GB/T 17507-2008 透射電子顯微鏡X射線能譜分析生物薄標(biāo)樣的通用技術(shù)條件
• GB/Z 42520-2023 鐵礦石X射線熒光光譜分析實(shí)驗(yàn)室操作指南
• GB/T 12079-1989 X射線管光電性能測試方法
• GB/T 12079-2012 X射線管光電性能測試方法
• GB/T 17507-1998 電子顯微鏡X射線能譜分析生物薄標(biāo)樣通用技術(shù)條件

SCC，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• 11/30230635 DC BS ISO 16129 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜法 X射線光電子能譜儀日常性能評估程序
• 09/30191895 DC BS ISO 10810 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南
• 10/30212265 DC BS ISO 14701 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 氧化硅厚度測量
• 10/30199175 DC BS ISO 16243 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜（XPS）數(shù)據(jù)的記錄和報(bào)告
• SPC GB/T 16597-2019 冶金產(chǎn)品分析方法 X射線熒光光譜法通則
• VDI/VDE 5575 BLATT 4:2018 射線光學(xué)系統(tǒng) X 射線反射鏡和 X 射線反射鏡系統(tǒng) 全反射鏡和多層反射鏡
• VDI/VDE 5575 BLATT 7-2019 射線光學(xué)系統(tǒng) 折射 X 射線透鏡

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-核工業(yè)，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• EJ/T 805-1993 X射線熒光分析用低能光子源
• EJ/T 1068-1998 X射線熒光分析用钚238源
• EJ/T 1067-1998 X射線熒光分析用镅241源
• EJ/T 767-1993 放射源激發(fā)的x射線熒光分析儀
• EJ/T 684-2016 便攜式能量色散X射線熒光分析儀

法國標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• NF X21-071:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析用導(dǎo)則
• NF ISO 16243:2012 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜(XPS)中的數(shù)據(jù)記錄和報(bào)告
• NF X21-073*NF ISO 16243:2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報(bào)告數(shù)據(jù)
• NF X21-055:2006 表面化學(xué)分析.X射線光電譜儀.能量刻度表校準(zhǔn)
• NF X21-061:2008 表面化學(xué)分析.螺旋電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測定

日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• JSA JIS G 1256 AMD 1 鐵和鋼- X射線熒光光譜分析法
• JSA JIS G 1256 鐵和鋼 X射線熒光光譜分析法
• JIS G 1256:1997 鋼鐵.X射線熒光光譜分析法
• JIS M 8205:2000 鐵礦石.X射線熒光光譜儀分析
• JIS R 2216:2005 耐火制品X射線熒光光譜分析法
• JIS H 1287:2015 鎳和鎳合金. X射線熒光光譜分析方法
• JIS H 1292:1997 銅和銅合金的X射線熒光光譜分析法
• JIS G 1351:2006 鐵合金.X-射線熒光光譜測定分析法
• JIS G 1256 AMD 1:2010 鋼鐵.X射線熒光光譜測定分析方法
• JIS H 1631:2008 鈦合金.X射線熒光光譜測定分析法
• JIS K 0152:2014 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜分析. 強(qiáng)度標(biāo)的重復(fù)性和一致性
• JIS G 1256 AMD 2:2013 鋼鐵.X射線熒光光譜分析法(修改件2)
• JIS G 1351:1987 鐵合金的X射線熒光光譜測定分析方法
• JIS H 1292:2018 銅合金.X射線熒光分光分析法
• JIS H 1669:1990 鋯合金的X射線熒光光譜測定分析方法
• JIS K 0145:2002 表面化學(xué)分析.X射線光電子分光計(jì).能量刻度的校準(zhǔn)
• JSA JIS G 1256 AMD 2 鐵和鋼- X射線熒光光譜分析法 (第2次修正案)
• JIS R 2216:1995 耐火磚和耐火灰漿X射線熒光光譜分析方法
• JIS G 1256:1982 鋼鐵的熒光X射線分析方法
• JIS M 8205:1983 鐵礦石熒光X射線分析方法
• JIS K 0119:2008 X射線熒光光譜測定法總則
• JIS K 0119:1997 X射線熒光光譜測定法總則
• JIS H 1292:2005 銅合金的X射線熒光分光分析法
• JIS K 0181:2021 表面化學(xué)分析 水的全反射X射線熒光分析
• JIS Z 4102:1994 醫(yī)用X光射線管

美國材料與試驗(yàn)協(xié)會，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• ASTM E1621-21 X射線發(fā)射光譜分析標(biāo)準(zhǔn)指南
• ASTM E1015-90 報(bào)告X射線光電子能譜中光譜的方法
• ASTM E996-94(1999) 俄歇電子能譜分析和X射線光電子光譜分析數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
• ASTM E1621-05 X射線發(fā)散光譜分析標(biāo)準(zhǔn)指南
• ASTM STP 485-1971 能量色散X射線分析
• ASTM D5381-93(1998) 顏料和填充劑的X射線螢光(XRF)光譜分析
• ASTM D5381-93(2003) 顏料和填充劑的X射線螢光(XRF)光譜分析
• ASTM E1085-95(2000) 金屬的X射線輻射光譜測定分析試驗(yàn)方法
• ASTM E1588-10e1 掃描電子顯微術(shù)/能量散射X射線光譜法射擊殘留物分析的標(biāo)準(zhǔn)指南
• ASTM E1085-95(2004) 金屬的X射線輻射光譜測定分析試驗(yàn)方法
• ASTM E1085-95(2004)e1 金屬的X射線輻射光譜測定分析試驗(yàn)方法
• ASTM E383-69(1989)e1 鎳-鎢合金中鎢的X射線發(fā)射光譜分析方法
• ASTM STP 349-1964 X射線及電子探針分析研討會
• ASTM E995-16 俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)指南
• ASTM E322-96e1 低合金鋼和鑄鐵的X射線發(fā)射光譜測定分析法
• ASTM E572-02a(2006)e1 不銹鋼X射線發(fā)射光譜分析的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
• ASTM E572-94(2000) 不銹鋼X射線發(fā)射光譜分析的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
• ASTM E1361-90(1999) X射線光譜分析中入射效應(yīng)校正的標(biāo)準(zhǔn)指南
• ASTM E572-02a 不銹鋼X射線發(fā)射光譜分析的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
• ASTM E572-02a(2006) 不銹鋼X射線發(fā)射光譜分析的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
• ASTM E1361-02(2021) X射線光譜分析中入射效應(yīng)校正的標(biāo)準(zhǔn)指南
• ASTM E572-94(2000)e1 不銹鋼X射線發(fā)射光譜分析的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
• ASTM E996-04 俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報(bào)告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
• ASTM STP 292-1961 X射線光譜分析文獻(xiàn)索引 第一部分 1913-1957
• ASTM E996-10 俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報(bào)告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
• ASTM E2108-16 X射線光電子能譜儀的電子結(jié)合能量標(biāo)尺的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐
• ASTM STP 376-1965 高溫合金的X射線與光學(xué)發(fā)射分析
• ASTM E996-10(2018) 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程
• ASTM E996-19 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程
• ASTM C1271-99(2006) 石灰和石灰?guī)rX射線光譜分析標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
• ASTM E1588-16 采用掃描電子顯微術(shù)/能量散射X射線光譜法進(jìn)行射擊殘留物分析的標(biāo)準(zhǔn)指南
• ASTM E2735-14(2020) 用于選擇X射線光電子能譜所需校準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)指南
• ASTM F3094-14(2022) 從散射X射線源測定醫(yī)用X射線熒光檢查用X射線屏蔽服防護(hù)的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-能源電力規(guī)劃，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• DL/T 1151.22-2012 火力發(fā)電廠垢和腐蝕產(chǎn)物分析方法.第22部分：X-射線熒光光譜和X-射線衍射分析
• DL/T 1151.22-2023 火力發(fā)電廠垢和腐蝕產(chǎn)物分析方法 第22部分：波長色散X射線熒光光譜法和X射線衍射法

韓國科技標(biāo)準(zhǔn)局，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• KS D 1655-2008(2024) 鋼鐵X射線熒光光譜分析方法
• KS D 2710-2019 鈮鐵的X射線熒光光譜分析法
• KS D 1654-2021 鋼鐵X射線熒光光譜分析通則
• KS D 1654-1993 鋼鐵X射線熒光光譜分析通則
• KS D 1654-2003(2016) 鋼鐵X射線熒光光譜分析通則
• KS D ISO 21270:2005 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性
• KS D ISO 21270-2020 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度標(biāo)度線性度
• KS D ISO 21270-2005(2020) 表面化學(xué)分析X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀強(qiáng)度標(biāo)度的線性
• KS D 1898-2019 銅合金的X射線熒光光譜法分析
• KS M 0017-2020 X射線熒光光譜分析的一般規(guī)則
• KS D 1655-1993 鋼鐵的X射線熒光光譜分析方法
• KS D ISO 15472-2003(2023) 表面化學(xué)分析-X射線光電子能譜儀-能量刻度的校準(zhǔn)
• KS D 1655-2019 鋼鐵的X射線熒光光譜分析方法
• KS M 0017-1995 X射線熒光光譜分析的一般規(guī)則
• KS D ISO 15470-2005(2020) 表面化學(xué)分析X射線光電子能譜儀部分性能參數(shù)說明
• KS D 1686-2011(2021) 鐵合金的x射線熒光光譜分析方法
• KS M 0043-2009 X射線衍射分析法
• KS L 3316-1988 耐火制品X射線熒光光譜分析方法
• KS L 3316-1998 耐火制品X射線熒光光譜分析方法
• KS L 3316-2014(2019) 耐火制品X射線熒光光譜分析方法
• KS D 1686-2021 鐵合金的X射線熒光光譜分析方法
• KS L 3316-2014 耐火制品X射線熒光光譜分析方法
• KS L 3316-2019 耐火制品X射線熒光光譜分析方法
• KS M 0017-2010 X射線熒光分析法通則
• KS D ISO 15470-2020 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 所選儀器性能參數(shù)說明
• KS E 3076-2017 硅石和硅砂的X射線熒光光譜分析方法
• KS E 3076-2022 硅石和硅砂的X射線熒光光譜分析方法
• KS D ISO 15472:2003 表面化學(xué)分析.X射線光電光譜儀.能量刻度的校正
• KS D ISO 15472-2003(2018) 表面化學(xué)分析-X射線光電子分光器-能量刻度矯正
• KS L 3316-2009 耐火磚和耐火泥漿X射線熒光光譜分析法
• KS D 2597-1996(2021) 鋯及鋯合金的X射線熒光光譜分析方法
• KS D ISO 19318-2005(2020) 表面化學(xué)分析X射線光電子能譜電荷控制和電荷校正方法報(bào)告
• KS D 2597-2021 鋯及鋯合金的X射線熒光光譜分析方法
• KS E 3075-2022 石灰石和白云石的X射線熒光光譜分析方法
• KS E 3075-2017 石灰石和白云石的X射線熒光光譜分析方法
• KS D 1655-2008(2019)(英文版) 鋼鐵的X射線熒光分析方法
• KS D 1898-1993 銅合金熒光X射線分析方法
• KS E 3075-2002 石灰石、白云石的X射線熒光光譜分析方法
• KS D 1655-2008(2019) 用于鋼鐵的X射線熒光光譜測定分析方法
• KS D ISO 19318-2020 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 電荷控制和電荷校正方法的報(bào)告
• KS L 5222-2009 水泥的熒光X.射線分析方法
• KS D ISO 19319-2005(2020) 表面化學(xué)分析－俄歇電子能譜和X射線光電子能譜－分析儀橫向分辨率、分析面積和樣品面積的測定
• KS E 3045-2002(2007) 鐵礦石的如何X射線熒光分析
• KS L 5222-2019 X射線熒光水泥化學(xué)分析方法
• KS D 1686-2011(2016) 對于鐵合金的X射線熒光光譜測定分析方法
• KS D 1655-2008 鋼鐵的X射線熒光光譜測定法
• KS D 1898-2009 銅合金X射線熒光光譜測定法
• KS M 0043-2009(2019) X射線衍射分析的一般規(guī)則
• KS D 2597-1996(2016) 對于鋯和鋯合金的X射線熒光光譜測定分析方法

俄羅斯標(biāo)準(zhǔn)局，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• GOST R 55080-2012 鑄鐵. X射線熒光光譜(XRF)分析法
• GOST 28033-1989 鋼.X射線熒光分析法
• GOST 16865-1979 X射線結(jié)構(gòu)和光譜分析裝置.術(shù)語和定義
• GOST 22091.4-1986 X射線儀.X射線管電壓測量方法
• GOST 22091.5-1986 X射線儀.X射線管電流測量方法
• GOST 22091.14-1986 X射線儀.X射線能通量密度（光通量密度）測量方法
• GOST 22091.2-1984 X射線儀.X射線電子回旋加速箱噴射電流和電壓測量方法
• GOST R 55410-2013 耐火材料. X射線熒光(XRF)分析
• GOST 25645.118-1984 離散源的X射線輻射.能譜和角坐標(biāo)

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-黑色冶金，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• YB/T 4177-2008 爐渣 X射線熒光光譜分析方法

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-機(jī)械，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• JB/T 11145-2011 X射線熒光光譜儀
• JB/T 9401-1999 側(cè)窗熒光分析X射線管

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局、中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• GB/T 22571-2017 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀 能量標(biāo)尺的校準(zhǔn)
• GB/T 33502-2017 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜（XPS）數(shù)據(jù)記錄與報(bào)告的規(guī)范要求

國家市場監(jiān)督管理總局、中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• GB/T 36401-2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果的報(bào)告
• GB/T 41073-2021 表面化學(xué)分析 電子能譜 X射線光電子能譜峰擬合報(bào)告的基本要求
• GB/T 16597-2019 冶金產(chǎn)品分析方法 X射線熒光光譜法通則

澳大利亞標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• AS ISO 15472:2006 表面化學(xué)分析．X射線光電子光譜法．能量標(biāo)度的校準(zhǔn)
• AS ISO 15470:2006(R2016) 表面化學(xué)分析 X射線光電子光譜法 選定儀器性能參數(shù)的描述
• AS ISO 15470:2006 表面化學(xué)分析．X射線光電子光譜法．選定儀器性能參數(shù)的描述
• AS ISO 19318:2006 表面化學(xué)分析．X射線光電子光譜學(xué)．電荷控制和電荷調(diào)整用報(bào)告法

PT-IPQ，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• E E 14-1971 X射線衍射分析

德國機(jī)械工程師協(xié)會，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• VDI VDE 5575 Blatt 4-2018 X射線光學(xué)系統(tǒng) 第4部分：X射線反射鏡
• VDI VDE 5575 Blatt 3-2011 X射線光學(xué)系統(tǒng) 第3部分：X射線透鏡
• VDI VDE 5575 Blatt 3-2019 X射線光學(xué)系統(tǒng) 第3部分：X射線微管
• VDI VDE 5575 Blatt 9-2019 X射線光學(xué)系統(tǒng)的第九部分：X射線濾波器
• VDI VDE 5575 Blatt-3 E:2018-05 VDI/VDE 5575 第3部分：X射線光學(xué)系統(tǒng) X射線毛細(xì)管
• VDI VDE 5575 Blatt 4-2011 X射線光學(xué)系統(tǒng)
• VDI VDE 5575 Blatt 1-2018 X射線光學(xué)系統(tǒng)
• VDI/VDE 5575 Blatt 7-2011 射線光學(xué)系統(tǒng) 折射 X 射線透鏡

VDI - Verein Deutscher Ingenieure，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• VDI/VDE 5575 Blatt 3-2009 X 射線光學(xué)系統(tǒng) X 射線毛細(xì)管
• VDI/VDE 5575 BLATT 4-2018 X射線光學(xué)系統(tǒng) X射線反射鏡和X射線反射鏡系統(tǒng) 全反射鏡和多層反射鏡
• VDI/VDE 5575 BLATT 4-2017 X射線光學(xué)系統(tǒng) X射線反射鏡和X射線反射鏡系統(tǒng) 全反射鏡和多層反射鏡
• VDI/VDE 5575 Blatt 7-2007 X 射線光學(xué)系統(tǒng) 折射 X 射線光學(xué) 參數(shù)定義
• VDI/VDE 5575 BLATT 3-2019 X 射線光學(xué)系統(tǒng) 毛細(xì)管 X 射線透鏡
• VDI/VDE 5575 BLATT 9-2018 射線光學(xué)系統(tǒng) X 射線濾光片
• VDI/VDE 5575 BLATT 9-2019 射線光學(xué)系統(tǒng) X 射線濾光片
• VDI/VDE 5575 BLATT 7-2018 射線光學(xué)系統(tǒng) 折射 X 射線透鏡

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-農(nóng)業(yè)，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• 58藥典 四部-2020 0461 X射線熒光光譜法
• 784獸藥典 一部-2015 附錄目次0400 光譜法0451 X射線衍射法

SE-SIS，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• SIS SS IEC 573:1986 X射線設(shè)備．X射線光電圖象增強(qiáng)器轉(zhuǎn)換因子測量
• SIS SS IEC 520:1989 X射線設(shè)備．光電X射線圖象增強(qiáng)器入射野尺寸
• SIS SS IEC 627:1986 X射線設(shè)備．X射線設(shè)備中防散射光柵特點(diǎn)
• SIS SS IEC 572:1986 X射線設(shè)備．X射線光電圖象增強(qiáng)器亮度分配測定
• SIS SS IEC 858:1987 X射線．電光X射線圖象增強(qiáng)器的圖象失真測定
• SIS SS IEC 406:1989 X射線設(shè)備．X光線照相盒式錄音帶
• SIS SS IEC 658:1986 X射線設(shè)備．醫(yī)用X光線照相增光屏．尺寸

廣東省標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• DB44/T 1602-2015 石材成分分析方法--X射線熒光光譜法

中國團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• T/CSTM 01199-2024 多層金屬薄膜 層結(jié)構(gòu)測量分析方法 X射線光電子能譜

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-建材，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• JC/T 1085-2008 水泥用X射線熒光分析儀

工業(yè)和信息化部/國家能源局，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• JB/T 12962.2-2016 能量色散X射線熒光光譜儀 第2部分：元素分析儀
• JB/T 12962.3-2016 能量色散X射線熒光光譜儀 第3部分：鍍層厚度分析儀

美國國家標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• ANSI N43.2-2001 X射線衍射和熒光分析設(shè)備的輻射安全

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-電子，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• SJ/T 10458-1993 俄歇電子能譜術(shù)和X射線光電子能譜術(shù)的樣品處理標(biāo)準(zhǔn)導(dǎo)則
• SJ/T 10714-1996 檢查X射線光電子能譜儀工作特性的標(biāo)準(zhǔn)方法
• SJ/Z 733-1973 X射線管系列型譜

IN-BIS，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• IS 12803-1989 X射線熒光光譜儀分析水硬性水泥的方法

美國電氣電子工程師學(xué)會，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• IEEE 759-1984 半導(dǎo)體X射線能譜分析器的試驗(yàn)程序

福建省地方標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• DB35/T 110-2000 油漆物證檢測電子探針和掃描電鏡X射線能譜分析方法

工業(yè)和信息化部，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• JB/T 14323-2021 X射線熒光分選機(jī)
• YS/T 1178-2017 鋁渣物相分析X射線衍射法

國際電工委員會，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• IEC 62495:2011 核監(jiān)測儀表.利用微型X-射線管的便攜式X-射線熒光分析設(shè)備

衛(wèi)生部國家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• GBZ 115-2002 X射線衍射和熒光分析儀衛(wèi)生防護(hù)標(biāo)準(zhǔn)

德國電氣，電子和信息技術(shù)協(xié)會，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• VDE 0412-20-2011 核儀器 使用微型 X 射線管的便攜式 X 射線熒光分析設(shè)備（IEC 62495:2011）

美國機(jī)動車工程師協(xié)會，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• SAE AMS2650-1984 熒光 X 射線檢查
• SAE AMS2650A-1991 熒光 X 射線檢查

國家計(jì)量技術(shù)規(guī)范，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• JJF 1133-2005 X射線熒光光譜法黃金含量分析儀校準(zhǔn)規(guī)范
• JJF 2024-2023 能量色散X射線熒光光譜儀校準(zhǔn)規(guī)范

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-商品檢驗(yàn)，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• SN/T 2079-2008 不銹鋼及合金鋼分析方法X-射線熒光光譜法

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-司法，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• SF/T 0139-2023 泥土檢驗(yàn) 掃描電子顯微鏡/X射線能譜法

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-石油，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• SY/T 7420-2018 X射線熒光光譜元素錄井規(guī)范

美國給水工程協(xié)會，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• AWWA 51768 利用 X 射線光電子能譜法識別低壓反滲透膜失效

丹麥標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會，關(guān)于x射線光電子能譜分析 和 x射線x的標(biāo)準(zhǔn)

• DANSK DS/ISO 17867:2020 粒度分析 小角 X 射線散射 (SAXS)

本站其他標(biāo)準(zhǔn)專題： x射線光電子能譜分析 和 x射線x，X射線應(yīng)力分析和X射線衍射分析，x射線光電子能譜分析 和 x射線，x射線分析和掃描，x射線能譜分析和x射線光電子能譜，能量色散x射線熒光分析和能量色散x射線分析，和x射線光電子能譜，+++++x射線光電子能譜分析，X射線光電子能譜分析，x 射線光電子能譜分析，《x射線光電子能譜分析》，x+射線光電子能譜 分析，x射線光電子能譜分析樣品，x射線光電子能譜和質(zhì)譜，光電子能譜和x射線能譜，電子和x射線光電子能譜儀，x射線光電子能譜分析制樣，x射線光電子能譜分析方法通則，x射線光電子能譜分析的檢測分析，掃描電鏡和x-射線能譜分析。

 

可能用到的儀器設(shè)備