碳化硅 發(fā)射光譜
本專題涉及碳化硅 發(fā)射光譜的標(biāo)準(zhǔn)有76條。
國際標(biāo)準(zhǔn)分類中，碳化硅 發(fā)射光譜涉及到分析化學(xué)、有色金屬、黑色金屬、建筑材料、鐵合金、陶瓷、金屬材料試驗、半導(dǎo)體材料、耐火材料、水質(zhì)、無機化學(xué)、電信綜合。
在中國標(biāo)準(zhǔn)分類中，碳化硅 發(fā)射光譜涉及到、輕金屬及其合金分析方法、生鐵、鋼鐵與鐵合金分析方法、鋼鐵產(chǎn)品綜合、電子技術(shù)專用材料、非金屬化工機械設(shè)備、電化學(xué)、熱化學(xué)、光學(xué)式分析儀器、重金屬及其合金分析方法、化合物半導(dǎo)體材料、陶瓷、玻璃綜合、金屬物理性能試驗方法、通信設(shè)備綜合、無線電通信設(shè)備、稀有金屬及其合金分析方法。
中國團體標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于碳化硅 發(fā)射光譜的標(biāo)準(zhǔn)
- T/SCS 000012-2021 碳化硼-碳化硅芯塊 微量元素的測定 電感 耦合等離子體發(fā)射光譜法
- T/SAS 0008-2020 輕量化碳化硅反射鏡
- T/SAS 0009-2020 輕量化碳化硅反射鏡鏡坯
- T/QAS 040-2021 《鹵水 硅的測定 電感耦合等離子體發(fā)射光譜法》
- T/CBMF 101-2021 碳酸鹽巖石化學(xué)分析方法 電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法
法國標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會，關(guān)于碳化硅 發(fā)射光譜的標(biāo)準(zhǔn)
- NF A07-520:1971 鋁硅及鋁硅銅合金的發(fā)射光譜分析
韓國科技標(biāo)準(zhǔn)局，關(guān)于碳化硅 發(fā)射光譜的標(biāo)準(zhǔn)
- KS D 1658-1993 碳鋼和低合金鋼的發(fā)射光譜分析
- KS D 1658-2003(2016)(英文版) 碳鋼和低合金鋼的發(fā)射光譜分析
- KS D 1658-2021 碳鋼和低合金鋼的發(fā)射光譜分析
- KS D 1658-2003(2016) 碳鋼和低合金鋼的發(fā)射光譜分析
- KS D 1658-2003 碳鋼和低合金鋼中碳的原子發(fā)射光譜分析法
- KS L 8011-2002 碳化硅發(fā)熱元件
- KS D 2086-1993 鈦的發(fā)射光譜化學(xué)分析方法
- KS D 1681-1993 鋁錠發(fā)射光譜化學(xué)分析方法
- KS D 2518-2015(2020) 金屬鎘光電發(fā)射光譜化學(xué)分析方法
- KS D 1683-1993 銀錠的發(fā)射光譜化學(xué)分析方法
- KS D 1681-2018 鋁錠的發(fā)射光譜化學(xué)分析方法
- KS M 0032-2009(2019) 一般規(guī)則ICP發(fā)射光譜化學(xué)分析
- KS D 1650-1993 金屬材料光電發(fā)射光譜化學(xué)分析通則
- KS D 2518-2020 金屬鎘的光電發(fā)射光譜化學(xué)分析方法
- KS D 1657-1981 金屬材料光電發(fā)射光譜化學(xué)分析方法
- KS E 3076-2017 硅石和硅砂的X射線熒光光譜分析方法
- KS E 3076-2022 硅石和硅砂的X射線熒光光譜分析方法
- KS D 1899-2019 電解陰極銅光電發(fā)射光譜化學(xué)分析方法
- KS D 1670-1987 有色金屬發(fā)射光譜化學(xué)分析方法
- KS D 1660-1987 金屬材料發(fā)射光譜化學(xué)測試通則
- KS M 0032-2019 ICP發(fā)射光譜化學(xué)分析的一般規(guī)則
- KS D 1685-1993 金屬鋅的發(fā)射光譜化學(xué)分析方法
- KS D 1929-2019 壓鑄鋅合金光電發(fā)射光譜化學(xué)分析方法
- KS D 1929-2004 壓鑄鋅合金光電發(fā)射光譜化學(xué)分析方法
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-商品檢驗，關(guān)于碳化硅 發(fā)射光譜的標(biāo)準(zhǔn)
- SN/T 2489-2010 生鐵中鉻、錳、磷、硅的測定.光電發(fā)射光譜法
- SN/T 2260-2010 陰極銅化學(xué)成分的測定 光電發(fā)射光譜法
美國材料與試驗協(xié)會，關(guān)于碳化硅 發(fā)射光譜的標(biāo)準(zhǔn)
- ASTM E403-88 光發(fā)射光譜分析碳和低合金鋼中的元素
- ASTM STP 517-1972 光學(xué)發(fā)射光譜儀
- ASTM E1063-94 碳鋼及低合金鋼中鈰和鑭的X射線發(fā)射光譜法測定
國家質(zhì)檢總局，關(guān)于碳化硅 發(fā)射光譜的標(biāo)準(zhǔn)
- GB/T 42794-2023 鎳鐵 碳、硫、硅、磷、鎳、鈷、鉻和銅含量的測定 火花源原子發(fā)射光譜法
- GB/T 30656-2014 碳化硅單晶拋光片
- GB/T 30656-2023 碳化硅單晶拋光片
- GB/T 42902-2023 碳化硅外延片表面缺陷的測試 激光散射法
- GB/T 43612-2023 碳化硅晶體材料缺陷圖譜
- GB/T 2590.8-1981 氧化鋯中氧化鉿量的測定(發(fā)射光譜法)
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-電子，關(guān)于碳化硅 發(fā)射光譜的標(biāo)準(zhǔn)
- SJ 3198-1989 真空硅鋁合金中硅、鐵、鎂、銅的發(fā)射光譜分析方法
國家計量檢定規(guī)程，關(guān)于碳化硅 發(fā)射光譜的標(biāo)準(zhǔn)
- JJG 768-2005 發(fā)射光譜儀
俄羅斯標(biāo)準(zhǔn)局，關(guān)于碳化硅 發(fā)射光譜的標(biāo)準(zhǔn)
- GOST 6012-1978 鎳 化學(xué)原子發(fā)射光譜分析法
- GOST 8776-2010 鈷.化學(xué)原子發(fā)射光譜分析法
- GOST 6012-2011 鎳.化學(xué)原子發(fā)射光譜分析法
- GOST 6012-1998 鎳 化學(xué)原子發(fā)射光譜分析方法
日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會，關(guān)于碳化硅 發(fā)射光譜的標(biāo)準(zhǔn)
- JIS G 1252:1975 碳素鋼及低合金鋼的發(fā)射光譜分析方法
- JIS H 1123:1995 鉛金屬的光電發(fā)射光譜化學(xué)分析法
- JIS H 1322:1976 鎂錠的發(fā)射光譜化學(xué)分析方法
- JSA JIS H 1183 AMD 1-2012 銀錠的發(fā)射光譜化學(xué)分析方法
- JIS H 1303:1976 鋁錠的發(fā)射光譜化學(xué)分析方法
- JSA JIS H 1183-2007 銀錠的發(fā)射光譜化學(xué)分析方法
- JIS H 1113:2022 金屬鋅的光電發(fā)射光譜化學(xué)分析方法
- JIS H 1163:1991 鎘金屬的光電發(fā)射光譜化學(xué)分析方法
- JIS H 1103:1995 電解陰極銅的光電發(fā)射光譜化學(xué)分析法
- JIS H 1560:2016 壓鑄鋅合金的光電發(fā)射光譜化學(xué)分析法
歐洲標(biāo)準(zhǔn)化委員會，關(guān)于碳化硅 發(fā)射光譜的標(biāo)準(zhǔn)
- EN ISO 21068-2:2024 原材料和含碳化硅、碳化硅氮化物、氧化氮化硅和sic alumina（sic-Al）制品的化學(xué)分析 第2部分：揮發(fā)分、總碳、游離碳、碳化硅、總硅和游離硅的測定
- EN 15979:2011 陶瓷原料和基本材料的測試.直流電弧激發(fā)發(fā)射光譜法直接測定碳化硅粉末和顆粒中雜質(zhì)質(zhì)量分?jǐn)?shù)
德國標(biāo)準(zhǔn)化學(xué)會，關(guān)于碳化硅 發(fā)射光譜的標(biāo)準(zhǔn)
- DIN 51088:2007 陶瓷原料和基本材料的測試.用發(fā)射光譜測定分析和直流電弧中的激勵測定碳化硅粉末和顆粒碳化硅中金屬微量雜質(zhì)的質(zhì)量分率
- DIN EN ISO 21068-2:2024 含碳化硅、氮化硅、氧氮化硅和賽隆的原材料和耐火制品的化學(xué)分析 第2部分：揮發(fā)性組分、總碳、游離碳、碳化硅、總硅和游離硅、自由碳的測定...
英國標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會，關(guān)于碳化硅 發(fā)射光譜的標(biāo)準(zhǔn)
- BS EN 15979:2011 陶瓷原料和基本材料的測試.直流電弧激發(fā)發(fā)射光譜法直接測定碳化硅粉末和顆粒中雜質(zhì)質(zhì)量分?jǐn)?shù)
- 24/30478129 DC BS EN 15979 陶瓷原料及陶瓷材料檢測 用直流電弧激發(fā)光發(fā)射光譜法（DCArc-OES）直接測定碳化硅粉末和顆粒中雜質(zhì)的質(zhì)量分?jǐn)?shù)
國際電信聯(lián)盟，關(guān)于碳化硅 發(fā)射光譜的標(biāo)準(zhǔn)
- ITU-R QUESTION 222/1-2000 發(fā)射機發(fā)射光譜特性的定義
- ITU-R SM.328-11-2006 發(fā)射光譜和帶寬
- ITU-R SM.328-11 SPANISH-2006 發(fā)射光譜和帶寬
- ITU-R SM.328-11 FRENCH-2006 發(fā)射光譜和帶寬
- ITU-R SM.328-9-1997 發(fā)射光譜和帶寬
- ITU-R SM.328-2006 發(fā)射光譜和帶寬
- ITU-R SM.328-8-1994 發(fā)射光譜和帶寬
未注明發(fā)布機構(gòu)，關(guān)于碳化硅 發(fā)射光譜的標(biāo)準(zhǔn)
- JIS H 1113:1976(1994) 鋅金屬化學(xué)成分光發(fā)射譜化學(xué)分析法
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-有色金屬，關(guān)于碳化硅 發(fā)射光譜的標(biāo)準(zhǔn)
- YS/T 568.8-2006 氧化鋯中氧化鉿量的測定（發(fā)射光譜法）
- YS/T 426.5-2000 銻鈹芯塊化學(xué)分析方法.電感耦合等離子體發(fā)射光譜法測定硅量
挪威標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于碳化硅 發(fā)射光譜的標(biāo)準(zhǔn)
- NS-EN ISO 21068-2:2024 含碳化硅、氮化硅、氧氮化硅和賽隆的原材料和耐火制品的化學(xué)分析 第2部分：揮發(fā)性組分、總碳、游離碳、碳化硅、總硅和游離硅、氟碳的測定...
意大利統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于碳化硅 發(fā)射光譜的標(biāo)準(zhǔn)
- UNI EN ISO 21068-2:2024 含碳化硅、氮化硅、氧氮化硅和賽隆的原材料和耐火制品的化學(xué)分析 第2部分：揮發(fā)性組分、總碳、游離碳、碳化硅、總硅和游離硅、自由碳的測定...
瑞典標(biāo)準(zhǔn)研究所，關(guān)于碳化硅 發(fā)射光譜的標(biāo)準(zhǔn)
- SS-EN ISO 21068-2:2024 原材料和含碳化硅、氮化硅、氧氮化硅和賽龍的耐火材料的化學(xué)分析 第2部分：揮發(fā)成分、總碳、游離碳、碳化硅、總硅和游離硅的測定...
