術(shù)語(yǔ) | 描述 |
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校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn) calibration standards | 由主要稀釋溶液或儲(chǔ)備液制備的標(biāo)準(zhǔn)溶液,含有待測(cè)元素或內(nèi)部標(biāo)準(zhǔn)元素。 |
線(xiàn)性校準(zhǔn)范圍 linear calibration range | 儀器響應(yīng)呈線(xiàn)性的濃度范圍。 |
靈敏度 sensitivity | 分析曲線(xiàn)線(xiàn)性擬合的斜率,表示熒光強(qiáng)度與濃度之間的函數(shù)關(guān)系。 |
檢測(cè)限 detection limit | 最小元素濃度,能夠以99%的信心認(rèn)為該元素濃度不同于空白。 |
全反射X射線(xiàn)熒光光譜儀 Mo作為X射線(xiàn)源和Ga作為內(nèi)部標(biāo)準(zhǔn)校準(zhǔn) | 用于表面化學(xué)分析,特別適用于硅片等樣品的元素含量測(cè)定。 |
01 導(dǎo)言 X 射線(xiàn)反射鏡是一種能反射和聚焦短波長(zhǎng) X 射線(xiàn)(束)的反射光學(xué)元件,廣泛應(yīng)用于各種分析儀器中。為了有效表征 X 射線(xiàn)的光學(xué)和物理性質(zhì),各種反射鏡形態(tài)須達(dá)到平均粗糙度在亞納米級(jí)的高表面精度。便攜式 X 射線(xiàn)元素分析儀基于全反射 X 射線(xiàn)熒光 (TXRF) 分析技術(shù)構(gòu)建,應(yīng)用于需要...
主要使用X射線(xiàn)束激發(fā)熒光輻射,第一次是在1928年由格洛克爾和施雷伯提出的。到了現(xiàn)在,該方法作為非破壞性分析技術(shù),并作為過(guò)程控制的工具,廣泛應(yīng)用于采掘和加工工業(yè)。原則上,最輕的元素,可分析出鈹(z=4),但由于儀器的局限性和輕元素的低X射線(xiàn)產(chǎn)量,往往難以量化,所以針對(duì)能量分散式的X射線(xiàn)熒光光譜儀...
X射線(xiàn)熒光光譜(XRF)技術(shù)是一項(xiàng)可用于確定各類(lèi)材料成份構(gòu)成的分析技術(shù),已經(jīng)成熟運(yùn)用多年。其應(yīng)用方向主要包括金屬合金、礦物、石化產(chǎn)品等等。而全反射X射線(xiàn)熒光作為X射線(xiàn)熒光中的后起之秀,因?yàn)橹茦雍?jiǎn)單且具有可與原子吸收光譜 (AAS), 電感耦合等離子體質(zhì)譜 (ICP-MS) 比擬的低至PPb級(jí)別...
X射線(xiàn)熒光光譜化學(xué)分析熔鑄玻璃片法,是用熔鑄玻璃片法制樣,以消除礦物和粒度效應(yīng),將樣品鑄成適合X射線(xiàn)熒光光譜儀測(cè)量形狀的玻璃片,測(cè)量玻璃片中待測(cè)元素的X射線(xiàn)熒光強(qiáng)度,根據(jù)校準(zhǔn)曲線(xiàn)來(lái)得到待測(cè)元素含量...
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