HB/Z 5086.3-2000
氰化電鍍銅溶液分析方法 電位滴定法測定氫氧化鈉的含量

Analytical method for cyanide electroplating copper solution Potentiometric titration for determination of sodium hydroxide content

標(biāo)準(zhǔn)號

HB/Z 5086.3-2000

發(fā)布

2000年

發(fā)布單位

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-航空

當(dāng)前最新

HB/Z 5086.3-2000

 

 

引用標(biāo)準(zhǔn)

GB 601-1988

被代替標(biāo)準(zhǔn)

HB/Z 5086-1978

適用范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了采用電位滴定法測定法測定氰化電鍍銅溶液中氫氧化鈉含量的方法原理、試劑、儀器、分析步驟及分析結(jié)果的計(jì)算。 　　 本標(biāo)準(zhǔn)適用于氰化電鍍銅溶液中氫氧化鈉含量的測定。 測量范圍：5～20g/L。

專題

HB/Z 5086.3-2000相似標(biāo)準(zhǔn)

HB/Z 5086.3-2000 中可能用到的儀器設(shè)備

氫氧化鈉 測試方法

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