ASTM D5127-13(2018)
電子和半導(dǎo)體行業(yè)超純水標(biāo)準(zhǔn)指南

Standard Guide for Ultra-Pure Water Used in the Electronics and Semiconductor Industries

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標(biāo)準(zhǔn)號(hào)

ASTM D5127-13(2018)

發(fā)布

2018年

總頁(yè)數(shù)

6頁(yè)

發(fā)布單位

美國(guó)材料與試驗(yàn)協(xié)會(huì)

當(dāng)前最新

ASTM D5127-13(2018)

 

 

引用標(biāo)準(zhǔn)

ASTM D1129 ASTM D1193 ASTM D1976 ASTM D2791 ASTM D3919 ASTM D4191 ASTM D4192 ASTM D4327 ASTM D4453 ASTM D4517 ASTM D5173 ASTM D5196 ASTM D5391 ASTM D5462 ASTM D5542 ASTM D5544 ASTM D5673 ASTM D5996 ASTM D5997 ASTM F1094

適用范圍

1.1 本指南提供了與電子和半導(dǎo)體行業(yè)制造相關(guān)的水質(zhì)建議。描述了七種水分類(lèi)，包括線(xiàn)寬低至 0.032 μm 的水。在所有情況下，建議都是針對(duì)分配點(diǎn) (POD) 的水。
1.2 水用于半導(dǎo)體元件在制造過(guò)程中的清洗和漂洗。水還用于清潔和蝕刻操作、制造蒸汽以氧化硅表面、制備光掩模以及沉積發(fā)光材料。其他應(yīng)用包括固態(tài)器件、薄膜器件、通信激光器、發(fā)光二極管、光電探測(cè)器、印刷電路、存儲(chǔ)器件、真空管器件或電解器件的開(kāi)發(fā)和制造。
1.3 用戶(hù)需要與此處描述的水質(zhì)不同的水質(zhì)時(shí)，應(yīng)查閱其他水標(biāo)準(zhǔn)，例如規(guī)范D1193和指南D5196。
1.4 本標(biāo)準(zhǔn)并不旨在解決與其使用相關(guān)的所有安全問(wèn)題（如果有）。本標(biāo)準(zhǔn)的使用者有責(zé)任建立適當(dāng)?shù)陌踩⒔】岛铜h(huán)境實(shí)踐，并在使用前確定監(jiān)管限制的適用性。
1.5 本國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)是根據(jù)世界貿(mào)易組織貿(mào)易技術(shù)壁壘（TBT）委員會(huì)發(fā)布的《關(guān)于制定國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)、指南和建議的原則的決定》中確立的國(guó)際公認(rèn)的標(biāo)準(zhǔn)化原則制定的。

其他標(biāo)準(zhǔn)

專(zhuān)題

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