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ASTM UOP972-01
使用 ICP-OES 分析乙酸中的鋁、硅和銀

Aluminum, Silicon and Silver in Acetic Acid by ICP-OES


標(biāo)準(zhǔn)號
ASTM UOP972-01
發(fā)布
2002年
發(fā)布單位
美國材料與試驗協(xié)會
當(dāng)前最新
ASTM UOP972-01
 
 
適用范圍
該方法用于通過電感耦合等離子體發(fā)射光譜法 (ICP-OES) 測定乙酸中鋁、硅和銀的痕量(質(zhì)量 ppm)濃度。鋁、硅和銀的檢測下限分別為 0.1 質(zhì)量 ppm、1 質(zhì)量 ppm 和 0.01 質(zhì)量 ppm。測定上限約為 100 質(zhì)量 ppm。該方法也適用于其他金屬的測定,但尚未得到驗證。

專題


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