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射線晶體分析

本專題涉及射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)有499條。

國際標(biāo)準(zhǔn)分類中，射線晶體分析涉及到教育、金屬材料試驗(yàn)、光學(xué)和光學(xué)測量、無機(jī)化學(xué)、分析化學(xué)、化工產(chǎn)品、金屬生產(chǎn)、空氣質(zhì)量、涂料配料、無損檢測、輻射測量、粒度分析、篩分、有色金屬、半導(dǎo)體材料、電子元器件綜合、黑色金屬、耐火材料、詞匯、鐵合金、標(biāo)準(zhǔn)化總則、醫(yī)療設(shè)備、電站綜合、輻射防護(hù)、核能工程、建筑材料、非金屬礦、金屬礦、鋼鐵產(chǎn)品、電工和電子試驗(yàn)、石油產(chǎn)品綜合、職業(yè)安全、工業(yè)衛(wèi)生、電子管、實(shí)驗(yàn)室醫(yī)學(xué)、頻率控制和選擇用壓電器件與介質(zhì)器件、太陽能工程、塑料、燃料、整流器、轉(zhuǎn)換器、穩(wěn)壓電源、長度和角度測量、有色金屬產(chǎn)品、絕緣流體、天然氣、珠寶、半導(dǎo)體分立器件、消防、光學(xué)設(shè)備、微生物學(xué)、醫(yī)學(xué)科學(xué)和保健裝置綜合、電子設(shè)備用機(jī)械構(gòu)件、廢物、煤、航空航天發(fā)動(dòng)機(jī)和推進(jìn)系統(tǒng)。

在中國標(biāo)準(zhǔn)分類中，射線晶體分析涉及到教學(xué)專用儀器、教育、學(xué)位、學(xué)銜、金屬物理性能試驗(yàn)方法、Ｘ射線、磁粉、熒光及其他探傷儀器、無機(jī)化工原料綜合、金屬化學(xué)分析方法綜合、基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器、電離輻射計(jì)量、工業(yè)防塵防毒技術(shù)、化學(xué)試劑綜合、無機(jī)鹽、物質(zhì)成份分析儀器與環(huán)境監(jiān)測儀器綜合、電化學(xué)、熱化學(xué)、光學(xué)式分析儀器、工業(yè)技術(shù)玻璃、顏料基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、工業(yè)氣體與化學(xué)氣體、金屬無損檢驗(yàn)方法、半導(dǎo)體分立器件綜合、涂料基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、涂料、篩分、篩板與篩網(wǎng)、輕金屬及其合金分析方法、元素半導(dǎo)體材料、、大氣環(huán)境有毒害物質(zhì)分析方法、硅質(zhì)耐火材料、耐火材料綜合、化學(xué)、質(zhì)譜儀、液譜儀、能譜儀及其聯(lián)用裝置、冶金原料與輔助材料綜合、物理學(xué)與力學(xué)、核儀器與核探測器綜合、重金屬及其合金分析方法、醫(yī)用射線設(shè)備、職業(yè)病診斷標(biāo)準(zhǔn)、電力試驗(yàn)技術(shù)、通用核儀器、放射源、水泥、化妝品、放射衛(wèi)生防護(hù)、輕金屬及其合金、催化劑基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、光學(xué)儀器綜合、鐵礦、鋼鐵與鐵合金分析方法、燃料油、生產(chǎn)環(huán)境安全衛(wèi)生設(shè)施、其他電真空器件、同位素與放射源綜合、輻射防護(hù)監(jiān)測與評價(jià)、石英晶體、壓電元件、光學(xué)計(jì)量、色譜儀、體外循環(huán)、人工臟器、假體裝置、顏料、建材產(chǎn)品綜合、合成樹脂、塑料基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、固體燃料礦綜合、電力半導(dǎo)體器件、部件、光學(xué)測試儀器、鋼鐵產(chǎn)品綜合、金相檢驗(yàn)方法、石油地質(zhì)勘探、稀有輕金屬及其合金、炭素材料綜合、化工專用儀器儀表、輻射防護(hù)儀器、電子技術(shù)專用材料、炭素材料、煉廠氣體、稀有金屬及其合金分析方法、非金屬礦、貴金屬及其合金、有色金屬礦綜合、法醫(yī)、犯罪鑒定技術(shù)、鐵合金、化學(xué)計(jì)量、建材原料礦、不定型耐火材料、定型隔熱耐火材料、混凝土、集料、灰漿、砂漿、液體介質(zhì)與植物、動(dòng)物、人體器官采樣方法、半金屬及半導(dǎo)體材料分析方法、冶金輔助原料礦、醫(yī)學(xué)、輕金屬礦、發(fā)動(dòng)機(jī)總體、煤巖、實(shí)驗(yàn)室基礎(chǔ)設(shè)備。


行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-教育，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • JY/T 0588-2020 單晶X射線衍射儀測定小分子化合物的晶體及分子結(jié)構(gòu)分析方法通則
  • JY/T 008-1996 四圓單晶X射線衍射儀測定小分子化合物的晶體及分子結(jié)構(gòu)分析方法通則
  • JY/T 0587-2020 多晶體X射線衍射方法通則
  • JY/T 009-1996 轉(zhuǎn)靶多晶體X射線衍身方法通則
  • JY/T 0567-2020 電感耦合等離子體發(fā)射光譜分析方法通則

國家質(zhì)檢總局，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • GB/T 42676-2023 半導(dǎo)體單晶晶體質(zhì)量的測試 X射線衍射法
  • GB/T 30904-2014 無機(jī)化工產(chǎn)品 晶型結(jié)構(gòu)分析 X射線衍射法
  • GB/T 19421.1-2003 層狀結(jié)晶二硅酸鈉試驗(yàn)方法 δ相層狀結(jié)晶二硅酸鈉定性分析 X射線衍射儀法
  • GB/T 38532-2020 微束分析 電子背散射衍射 平均晶粒尺寸的測定
  • GB/T 11114-1989 人造石英晶體位錯(cuò)的X 射線形貌檢測方法
  • GB/T 11113-1989 人造石英晶體中雜質(zhì)的分析方法
  • GB/T 42360-2023 表面化學(xué)分析 水的全反射X射線熒光光譜分析
  • GB/T 19140-2003 水泥X射線熒光分析通則
  • GB 16355-1996 X射線衍射儀和熒光分析儀放射防護(hù)標(biāo)準(zhǔn)
  • GB/T 30704-2014 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南
  • GB/T 5225-1985 金屬材料定量相分析 X射線衍射K值法
  • GB/T 13710-1992 分析用X射線管空白詳細(xì)規(guī)范
  • GB/T 19500-2004 X射線光電子能譜分析方法通則
  • GB/T 43088-2023 微束分析 分析電子顯微術(shù) 金屬薄晶體試樣中位錯(cuò)密度的測定方法
  • GB/T 25923-2010 在線氣體分析器 技術(shù)條件
  • GB/T 25924-2010 在線氣體分析器 試驗(yàn)方法
  • GB/T 8359-1987 高速鋼中碳化物相的定量分析 X射線衍射儀法
  • GB/T 42518-2023 鍺酸鉍(BGO)晶體 痕量元素化學(xué)分析 輝光放電質(zhì)譜法
  • GB/T 13971-1992 紫外線氣體分析器技術(shù)條件
  • GB/T 13971-2013 紫外線氣體分析器技術(shù)條件
  • GB/T 25929-2010 紅外線氣體分析器 技術(shù)條件
  • GB/T 25930-2010 紅外線氣體分析器 試驗(yàn)方法
  • GB/T 16597-1996 冶金產(chǎn)品分析方法 X射線熒光光譜法通則
  • GB/T 17362-2008 黃金制品的掃描電鏡X射線能譜分析方法
  • GB/T 17362-1998 黃金飾品的掃描電鏡X射線能譜分析方法
  • GB/T 5275.4-2014 氣體分析 動(dòng)態(tài)體積法制備校準(zhǔn)用混合氣體 第4部分:連續(xù)注射法
  • GB/T 18873-2002 生物薄試樣的透射電子顯微鏡-X射線 能譜定量分析通則
  • GB/T 18873-2008 生物薄試樣的透射電子顯微鏡-X射線能譜定量分析通則
  • GB/Z 42520-2023 鐵礦石X射線熒光光譜分析實(shí)驗(yàn)室操作指南
  • GB/T 26070-2010 化合物半導(dǎo)體拋光晶片亞表面損傷的反射差分譜測試方法
  • GB/T 20726-2015 微束分析 電子探針顯微分析X射線能譜儀主要性能參數(shù)及核查方法
  • GB/T 17507-2008 透射電子顯微鏡X射線能譜分析生物薄標(biāo)樣的通用技術(shù)條件
  • GB/T 17359-1998 電子探針和掃描電鏡X射線能譜定量分析通則

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-機(jī)械，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局、中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

KR-KS，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

德國機(jī)械工程師協(xié)會(huì)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

IET - Institution of Engineering and Technology，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會(huì)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-航空，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • HB 6742-1993 單晶葉片晶體取向的測定X射線背射勞厄照相法

HU-MSZT，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

國際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • ISO/CD 19214:2023 微束分析 分析電子顯微鏡 透射電子顯微鏡測定線狀晶體表觀生長方向的方法
  • ISO 16258-2:2015 工作場所的空氣. 采用X射線衍射分析可吸入結(jié)晶二氧化硅. 第2部分: 間接分析法
  • ISO/CD 5861 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 石英晶體單色Al Ka XPS儀器強(qiáng)度校準(zhǔn)方法
  • ISO/DIS 5861:2023 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 石英晶體單色 Al Kα XPS 儀器強(qiáng)度校準(zhǔn)方法
  • ISO 17867:2015 粒徑分析. 小角X射線散射
  • ISO 20289:2018 表面化學(xué)分析.水的全反射X射線熒光分析
  • ISO 13067:2020 微束分析 - 電子反向散射衍射 - 平均晶粒尺寸的測量
  • ISO 16258-1:2015 工作場所的空氣. 采用X射線衍射分析可吸入結(jié)晶二氧化硅. 第1部分: 直接過濾法
  • ISO/TS 13762:2001 粒度分析 小角度X射線濺射法
  • ISO 17867:2020 粒度分析.小角度X射線散射（SAXS）
  • ISO 14706:2000 表面化學(xué)分析 用總反射X-射線熒光(TXRF)測定法測定硅晶片的表面基本的污染
  • ISO 14706:2014 表面化學(xué)分析 用總反射X-射線熒光(TXRF)測定法測定硅晶片的表面基本的污染
  • ISO 19214:2017 微束分析. 分析電子顯微術(shù). 采用透射電子顯微鏡術(shù)測定絲狀晶體顯著增長方向的方法
  • ISO 10810:2019 表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜分析指南
  • ISO 10810:2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).分析導(dǎo)則
  • ISO 16087:2013 外科植入物.骨科植入物評估倫琴射線立體攝影測量分析
  • ISO/TS 18507:2015 表面化學(xué)分析. 全反射X射線熒光光譜法在生物和環(huán)境分析中的使用
  • ISO 15632:2021 微光束分析.帶半導(dǎo)體探測器能量發(fā)散X射線分光儀的儀器規(guī)范
  • ISO 15632:2012 微光束分析.帶半導(dǎo)體探測器能量發(fā)散X射線分光儀的儀器規(guī)范
  • ISO 13424:2013 表面化學(xué)分析——X射線光電子能譜；薄膜分析結(jié)果的報(bào)告
  • ISO 15632:2002 微光束分析.帶半導(dǎo)體探測器的能量發(fā)散X射線分光儀的儀器規(guī)范
  • ISO 17470:2004 微光束分析.電子探針顯微分析.波長分散X射線光譜法分析質(zhì)量點(diǎn)的指南
  • ISO 18554:2016 表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進(jìn)行分析的X射線的意外降解的識(shí)別, 評估和修正程序
  • ISO 20203:2005 鋁生產(chǎn)中使用的碳素材料.煅燒焦炭.用X-射線衍射法測定煅燒石油焦的晶體粒度
  • ISO 23749:2022 微束分析.電子背散射衍射.鋼中奧氏體的定量測定
  • ISO 23703:2022 微束分析.用電子背散射衍射（EBSD）評估奧氏體不銹鋼機(jī)械損傷的取向分析指南
  • ISO 17470:2014 微束分析. 電子探針微量分析. 用波長色散X射線光譜測定法定性點(diǎn)分析指南
  • ISO 22489:2006 微光束分析.電子探針微量分析.運(yùn)用波長色散X射線光譜測量法定量分析塊狀樣品
  • ISO 22489:2016 微光束分析.電子探針微量分析.運(yùn)用波長色散X射線光譜測量法定量分析塊狀樣品
  • ISO 21587-2:2007 硅酸鋁耐火材料的化學(xué)分析(可選擇X射線熒光法).第2部分:濕化學(xué)分析
  • ISO 16129:2018 表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜 - 評估X射線光電子能譜儀日常性能的方法
  • ISO 29581-2:2010 水泥.試驗(yàn)方法.第2部分:用X射線熒光法的化學(xué)分析
  • ISO 15472:2010 表面化學(xué)分析.X射線光電譜儀.能量刻度表校準(zhǔn)
  • ISO 15472:2001 表面化學(xué)分析 X射線光電譜儀 能量刻度表校準(zhǔn)

PT-IPQ，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

國家計(jì)量技術(shù)規(guī)范，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • JJF 1256-2010 X射線單晶體定向儀校準(zhǔn)規(guī)范
  • JJF 1079-2002 陰極射線管彩色分析儀校準(zhǔn)規(guī)范
  • JJF 1133-2005 X射線熒光光譜法黃金含量分析儀校準(zhǔn)規(guī)范

法國標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會(huì)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • NF X43-600-2*NF ISO 16258-2:2015 工作場所空氣 通過 X 射線衍射分析可吸入結(jié)晶二氧化硅 第2部分：間接分析法
  • NF X20-301:1978 用不分散紅外線射束吸收的氣體分析法
  • NF A09-280-3*NF EN 13925-3:2005 無損檢驗(yàn).多晶和非晶材料的X射線衍射.第3部分:儀器
  • NF A09-280-2*NF EN 13925-2:2003 無損檢驗(yàn) 多晶和非晶材料的X射線衍射 第2部分：程序
  • NF EN 1330-11:2007 無損檢測 - 術(shù)語 - 第 11 部分：多晶和非晶材料的 X 射線衍射
  • NF A09-280-1*NF EN 13925-1:2003 無損檢驗(yàn).多晶和非晶材料的X射線衍射.第1部分:基本原則
  • NF EN 13925-2:2003 無損檢測 - X 射線衍射應(yīng)用于多晶和非晶材料 - 第 2 部分：程序
  • NF X43-600-1*NF ISO 16258-1:2015 工作場所空氣 通過 X 射線衍射分析可吸入結(jié)晶二氧化硅 第1部分：直接過濾法
  • NF EN 13925-3:2005 無損檢測-應(yīng)用于多晶和非晶材料的X射線衍射-第3部分：設(shè)備
  • NF EN 13925-1:2003 無損檢測 - X 射線衍射應(yīng)用于多晶和非晶材料 - 第 1 部分：一般原理
  • NF A09-020-11*NF EN 1330-11:2007 無損檢測.術(shù)語.第11部分:多結(jié)晶和非結(jié)晶材料中X射線衍射用術(shù)語
  • NF ISO 16258-2:2015 工作場所空氣 通過 X 射線衍射測定結(jié)晶二氧化硅的可吸入部分 第2部分：間接分析方法
  • NF X20-361:1976 氣體分析.用不分散紅外線射束吸收測定一氧化碳
  • NF ISO 16258-1:2015 工作場所空氣 X 射線衍射法測定結(jié)晶二氧化硅的可吸入部分 第1部分：直接過濾分析方法
  • NF X21-071:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析用導(dǎo)則
  • NF S92-501:2006 醫(yī)用生物分析實(shí)驗(yàn)室.人類輻射計(jì)量.人體輻射計(jì)數(shù).測量高能α-射線發(fā)射器(高于200 keV)
  • NF C93-621-7*NF EN 60444-7:2004 石英晶體元件參數(shù)的測量 第7部分：石英晶體元件的放射性和頻率下降測量
  • NF X11-683:1981 液體內(nèi)變高度重力沉積粉末顆粒分析.X射線吸收測量法
  • NF EN 15305:2009 無損檢測 X射線衍射殘余應(yīng)力分析試驗(yàn)方法
  • NF T51-223:1985 塑料制品.半晶體材料.用熱分析法測定常規(guī)熔點(diǎn)
  • NF X21-008:2012 微光束分析.帶半導(dǎo)體探測器能量發(fā)散X射線分光儀的儀器規(guī)格
  • NF S92-502:2006 醫(yī)用生物分析實(shí)驗(yàn)室.人類輻射學(xué).肺計(jì)數(shù).低能X-射線和α-射線發(fā)射器(小于200 keV)
  • NF T25-111-3:1991 碳纖維-織構(gòu)和結(jié)構(gòu)-第3部分：X 射線衍射的方位角分析
  • NF X21-003:2006 微光束分析.電子探針顯微分析.波長分布X射線光譜測量法定量分析指南
  • NF A09-185*NF EN 15305:2009 無損檢測.用X射線衍射對殘余應(yīng)力分析的試驗(yàn)方法
  • NF EN ISO 12677:2011 X射線熒光法耐火材料化學(xué)分析-熔珠法
  • NF A06-012*NF EN 14242:2005 鋁和鋁合金 化學(xué)分析 感應(yīng)耦合等離子體光學(xué)發(fā)射光譜分析法
  • A08-652:1994 鈦及鈦合金的化學(xué)分析 等離子體發(fā)射光譜分析應(yīng)遵循的規(guī)則
  • NF A09-285:1999 無損試驗(yàn).通過X射線衍射進(jìn)行殘余應(yīng)力分析的試驗(yàn)方法
  • NF EN ISO 6145-4:2008 氣體分析 使用動(dòng)態(tài)容量法制備校準(zhǔn)用氣體混合物 第4部分：連續(xù)注射注射器法
  • NF B49-422-2*NF EN 12698-2:2008 氮化物結(jié)合碳化硅耐火材料的化學(xué)分析.第2部分:X射線衍射(XRD)法.
  • NF B40-670-2*NF EN ISO 21587-2:2007 硅酸鋁耐火材料的化學(xué)分析（可選擇X射線熒光法）第2部分：濕法化學(xué)分析
  • XP A06-379-1999 波長散射性X射線熒光光譜分析的標(biāo)準(zhǔn)常規(guī)用法的制定指南
  • NF X21-055:2006 表面化學(xué)分析.X射線光電譜儀.能量刻度表校準(zhǔn)
  • NF M07-095*NF EN ISO 14597:1999 石油產(chǎn)品 釩和鎳含量的測定 X射線熒光分析法
  • NF A11-103:1977 鈮鐵合金的化學(xué)分析.X射線熒光光譜法測定鈮

韓國科技標(biāo)準(zhǔn)局，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

國家市場監(jiān)督管理總局、中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • GB/T 37983-2019 晶體材料X射線衍射儀旋轉(zhuǎn)定向測試方法
  • GB/T 20724-2021 微束分析 薄晶體厚度的會(huì)聚束電子衍射測定方法
  • GB/T 41076-2021 微束分析 電子背散射衍射 鋼中奧氏體的定量分析
  • GB/T 5832.4-2020 氣體分析 微量水分的測定 第4部分：石英晶體振蕩法
  • GB/T 36923-2018 珍珠粉鑒別方法 X射線衍射分析法
  • GB/T 40407-2021 硅酸鹽水泥熟料礦相X射線衍射分析方法
  • GB/T 37182-2018 氣體分析 等離子發(fā)射氣相色譜法
  • GB/T 36401-2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果的報(bào)告
  • GB/T 16597-2019 冶金產(chǎn)品分析方法 X射線熒光光譜法通則
  • GB/T 40485-2021 煤的鏡質(zhì)體隨機(jī)反射率自動(dòng)測定 圖像分析法

德國標(biāo)準(zhǔn)化學(xué)會(huì)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • DIN 52341:1993 玻璃的試驗(yàn).鉛晶體玻璃和晶體玻璃的化學(xué)分析
  • DIN EN 13925-2:2003 無損檢驗(yàn).多晶和非晶材料的X射線衍射.第2部分:程序
  • DIN EN 13925-1:2003 無損檢驗(yàn).多晶和非晶材料的X射線衍射.第1部分:總則
  • DIN EN 13925-3:2005 無損檢驗(yàn).多晶和非晶材料的X射線衍射.第3部分:儀器
  • DIN EN 13925-3:2005-07 無損檢測 多晶和非晶材料的 X 射線衍射 第3部分：儀器
  • DIN EN 13925-2:2003-07 無損檢測 - 多晶和非晶材料的 X 射線衍射 - 第 2 部分：程序
  • DIN ISO 13067:2021-08 微束分析 電子背散射衍射 平均晶粒尺寸測量
  • DIN EN 13925-1:2003-07 無損檢測 - 多晶和非晶材料的 X 射線衍射 - 第 1 部分：一般原理
  • DIN 50433-1:1976 無機(jī)半導(dǎo)體材料的檢驗(yàn).第1部分:采用X射線衍射現(xiàn)象對單晶體取向的測定
  • DIN 51418-2:2015 X射線光譜分析.X射線散射和X射線熒光分析(RFA).第2部分:定義和測量、校準(zhǔn)及評估的基本原則
  • DIN 51418-2:1996 X射線光譜分析.X射線散射和X射線熒光分析(RFA).第2部分:定義和測量、校準(zhǔn)及評估的基本原則
  • DIN EN 1330-11:2007-09 無損檢測 術(shù)語 第11部分：多晶和非晶材料 X 射線衍射中使用的術(shù)語
  • DIN ISO 13067:2021 微束分析 電子背散射衍射 平均晶粒尺寸的測量（ISO 13067:2020）
  • DIN 50443-1:1988 半導(dǎo)體工藝使用材料的檢驗(yàn).第1部分:用X射線外形測量法檢測半導(dǎo)體單晶硅中晶體缺陷和不均勻性
  • DIN 51418-1:2008-08 射線光譜測定 X 射線發(fā)射和 X 射線熒光分析(XRF)第1部分：定義和基本原理
  • DIN 51004:1994 熱分析(TA).用示差值熱分析法(DTA)測定晶體材料的溶化溫度
  • DIN 51418-1:2008 X射線光譜測定法.X射線散射和X射線熒光分析(XRF).第1部分:定義和基本原理
  • DIN EN 1330-11:2007 無損檢驗(yàn).專業(yè)術(shù)語.第11部分:在多晶和非晶材料的X射線衍射中使用的術(shù)語
  • DIN 51418-1:1996 X光射線光譜測定法.X光射線散射和X光射線熒光分析(RFA).第1部分:定義和基本原理
  • DIN EN 15305 Berichtigung 1:2009 無損檢驗(yàn) 使用X射線衍射法進(jìn)行分析殘余應(yīng)力分析的試驗(yàn)方法
  • DIN EN 15305 Berichtigung 1:2009-04 無損檢測 X射線衍射殘余應(yīng)力分析試驗(yàn)方法
  • DIN EN 15305:2009-01 無損檢測 X射線衍射殘余應(yīng)力分析試驗(yàn)方法
  • DIN 55912-2 Bb.2:1999 顏料.二氧化鈦顏料.分析方法.用X射線熒光分析法制定校準(zhǔn)曲線
  • DIN 51729-10:1996 固體燃料試驗(yàn).燃料灰化學(xué)成分測定.第10部分:X射線熒光分析法(RFA)
  • DIN 51729-10:2011-04 固體燃料的測試 燃料灰分化學(xué)成分的測定 第10部分：X射線熒光分析
  • DIN 51729-10:2011 固體燃料的試驗(yàn).燃料灰分化學(xué)組成的測定.第10部分:X射線熒光分析
  • DIN 51418-2:2015-03 X 射線光譜測定 X 射線發(fā)射和 X 射線熒光分析(XRF)第2部分：測量、校準(zhǔn)和結(jié)果評估的定義和基本原則
  • DIN EN 14242:2023-04 鋁及鋁合金-化學(xué)分析-電感耦合等離子體發(fā)射光譜分析
  • DIN EN 14242:2023 鋁和鋁合金?；瘜W(xué)分析。電感耦合等離子體發(fā)射光譜分析
  • DIN IEC 62495:2011 核儀器.使用微型X射線管的便攜式X射線熒光分析設(shè)備(IEC 62495-2011)
  • DIN EN 15305:2009 無損檢測.X射線衍射法對殘余應(yīng)力分析用試驗(yàn)方法
  • DIN ISO 15632:2015 微光束分析.帶半導(dǎo)體探測器能量發(fā)散X射線分光儀的儀器規(guī)范(ISO 15632-2012)
  • DIN EN 14242:2004 鋁和鋁合金.化學(xué)分析.電感耦合等離子體光學(xué)發(fā)射光譜分析
  • DIN 6871-2:2005 正電子放射層析X射線攝影法用回旋加速器系統(tǒng).第2部分:輻射防護(hù)迷宮式密封體和護(hù)墻入口
  • DIN 50433-2:1976 無機(jī)半導(dǎo)體材料的檢驗(yàn).第2部分:采用反射光影法測定單晶體取向
  • DIN 55912-2 Bb.1:1999 顏料.二氧化鈦顏料.分析方法.用X射線熒光分析測定次要成分的實(shí)例
  • DIN 51418-2 Bb.1:2000 X射線光度法.X射線散射和X射線熒光分析(XRF).第2部分:定義和測量、校準(zhǔn)及對結(jié)果評定的基本原理.附加信息和計(jì)算范例
  • DIN ISO 16129:2020-11 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 X射線光電子能譜儀日常性能評估程序
  • DIN EN ISO 21587-2:2007 硅酸鋁耐熔制品的化學(xué)分析(可選擇X射線熒光法).第2部分:濕化學(xué)分析
  • DIN EN ISO 21587-2:2007-12 鋁硅酸鹽耐火制品的化學(xué)分析（替代X射線熒光法）-第2部分：濕化學(xué)分析
  • DIN EN 12698-2:2007 氮化物結(jié)合碳化硅耐火材料的化學(xué)分析.第2部分:X射線衍射(XRD)法
  • DIN 50433-3:1982 半導(dǎo)體工藝材料的檢驗(yàn).第3部分:采用勞埃反向散射法測定單晶體取向
  • DIN 6870-1:2009 醫(yī)療放射學(xué)的質(zhì)量管理體系.第1部分:放射線療法

美國材料與試驗(yàn)協(xié)會(huì)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • ASTM D5380-93(2009) 用X射線繞射分析識(shí)別涂料中結(jié)晶顏料和填充劑的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
  • ASTM D5380-93(2003) 通過X射線衍射分析鑒定涂料中結(jié)晶顏料和擴(kuò)展劑的標(biāo)準(zhǔn)測試方法
  • ASTM D5380-93(1998) 用X射線繞射分析法鑒定涂料中結(jié)晶顏料和填充劑的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
  • ASTM D5380-93(2021) 通過X射線衍射分析鑒定涂料中結(jié)晶顏料和擴(kuò)展劑的標(biāo)準(zhǔn)測試方法
  • ASTM D5380-93(2014) 用X射線繞射分析法鑒定涂料中水晶顏料和填充劑的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
  • ASTM E1621-21 X射線發(fā)射光譜分析標(biāo)準(zhǔn)指南
  • ASTM E975-00 X射線測定近似隨機(jī)晶體取向鋼中殘留奧氏體的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐
  • ASTM E1621-05 X射線發(fā)散光譜分析標(biāo)準(zhǔn)指南
  • ASTM E1085-95(2004) 金屬的X射線輻射光譜測定分析試驗(yàn)方法
  • ASTM E1085-95(2000) 金屬的X射線輻射光譜測定分析試驗(yàn)方法
  • ASTM E1085-95(2004)e1 金屬的X射線輻射光譜測定分析試驗(yàn)方法
  • ASTM E572-94(2000) 不銹鋼X射線發(fā)射光譜分析的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
  • ASTM E572-02a(2006)e1 不銹鋼X射線發(fā)射光譜分析的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
  • ASTM E572-02a(2006) 不銹鋼X射線發(fā)射光譜分析的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
  • ASTM E572-02a 不銹鋼X射線發(fā)射光譜分析的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
  • ASTM E1361-90(1999) X射線光譜分析中入射效應(yīng)校正的標(biāo)準(zhǔn)指南
  • ASTM E572-94(2000)e1 不銹鋼X射線發(fā)射光譜分析的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
  • ASTM E1361-02(2021) X射線光譜分析中入射效應(yīng)校正的標(biāo)準(zhǔn)指南
  • ASTM E322-96e1 低合金鋼和鑄鐵的X射線發(fā)射光譜測定分析法
  • ASTM E975-03 近隨機(jī)結(jié)晶定向鋼中殘留奧氏體的X射線測定標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程
  • ASTM E975-03(2008) 近隨機(jī)結(jié)晶定向鋼中殘留奧氏體的X射線測定標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程
  • ASTM E975-22 近隨機(jī)結(jié)晶取向鋼中殘余奧氏體的X射線測定的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
  • ASTM E975-13 近隨機(jī)結(jié)晶定向鋼中殘留奧氏體的X射線測定的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程
  • ASTM D5381-93(2003) 顏料和填充劑的X射線螢光(XRF)光譜分析
  • ASTM D5381-93(1998) 顏料和填充劑的X射線螢光(XRF)光譜分析
  • ASTM F1375-92(2005) 氣體分配系統(tǒng)元部件用金屬表面狀態(tài)的能量分散X射線分光光譜分析試驗(yàn)法
  • ASTM E322-96(2004) 低合金鋼和鑄鐵的X射線發(fā)射光譜分析的標(biāo)準(zhǔn)測試方法
  • ASTM D6052-97(2016) 通過能量分散X射線熒光法制備和元素分析液體危險(xiǎn)廢物的標(biāo)準(zhǔn)測試方法
  • ASTM E2125-01 苯環(huán)哌啶及其相似物的司法分析中微晶體測試的標(biāo)準(zhǔn)指南
  • ASTM E2125-07 苯環(huán)哌啶及其相似物的司法分析中微晶體測試的標(biāo)準(zhǔn)指南
  • ASTM E996-94(1999) 俄歇電子能譜分析和X射線光電子光譜分析數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
  • ASTM E1588-10e1 掃描電子顯微術(shù)/能量散射X射線光譜法射擊殘留物分析的標(biāo)準(zhǔn)指南
  • ASTM E3294-22 用粉末X射線衍射法對地質(zhì)材料進(jìn)行法醫(yī)分析的標(biāo)準(zhǔn)指南
  • ASTM C1271-99(2006) 石灰和石灰?guī)rX射線光譜分析標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
  • ASTM C1271-99 石灰石灰石X射線光譜分析的標(biāo)準(zhǔn)測試方法
  • ASTM C1271-99(2020) 石灰石灰石X射線光譜分析的標(biāo)準(zhǔn)測試方法
  • ASTM D6052-97 通過能量分散X-射線熒光性對液體有害廢物制備和元素分析的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
  • ASTM D6052-97(2003) 通過能量分散X-射線熒光性對液體有害廢物制備和元素分析的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
  • ASTM D6052-97(2008) 通過能量分散X-射線熒光性對液體有害廢物制備和元素分析的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
  • ASTM D6052-97(2023) 用能量分散X射線熒光法對液體危險(xiǎn)廢物的制備和元素分析的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
  • ASTM E1968-11 在對可卡因進(jìn)行法醫(yī)分析時(shí)所進(jìn)行的微晶體試驗(yàn)的標(biāo)準(zhǔn)指南
  • ASTM E539-90(1996)e1 6鋁4釩鈦合金的X射線輻射光譜測定分析的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
  • ASTM E539-02 6鋁4釩鈦合金的X射線輻射光譜測定分析的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
  • ASTM E539-06 6鋁4釩鈦合金的X射線輻射光譜測定分析的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法
  • ASTM E3294-23 用粉末X射線衍射法對地質(zhì)材料進(jìn)行法醫(yī)學(xué)分析的標(biāo)準(zhǔn)指南
  • ASTM E2465-11e1 用 X 射線光譜法分析鎳基合金的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

歐洲標(biāo)準(zhǔn)化委員會(huì)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • EN 13925-2:2003 無損檢測.多晶和非晶材料的X射線衍射.第2部分:程序
  • EN 13925-3:2005 無損檢驗(yàn).多晶和非晶材料的X射線衍射.第3部分:儀器
  • EN 13925-1:2003 無損檢驗(yàn).多晶體材料和無定形材料的X射線衍射.第1部分:一般原理
  • EN 14242:2004 鋁和鋁合金.化學(xué)分析.電感耦合等離子體光學(xué)發(fā)射光譜分析
  • CEN/TR 10354:2011 黑色金屬材料化學(xué)分析 硅鐵分析 X射線熒光光譜法測定硅和鋁
  • EN 12698-2:2007 氮化物結(jié)合碳化硅耐火材料的化學(xué)分析.第2部分:X射線衍射(XRD)法
  • PD CEN/TR 10354:2011 黑色金屬材料的化學(xué)分析 硅鐵的分析 X射線熒光光譜法測定硅和鋁

丹麥標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會(huì)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • DS/EN 13925-2:2003 無損檢測 多晶和非晶材料的 X 射線衍射 第2部分：程序
  • DS/EN 13925-3:2005 無損檢測 多晶和非晶材料的 X 射線衍射 第3部分：儀器
  • DS/EN 13925-1:2003 無損檢測 多晶和非晶材料的 X 射線衍射 第1部分：一般原則
  • DS/EN 15305/AC:2009 無損檢測 用 X 射線衍射分析殘余應(yīng)力的試驗(yàn)方法
  • DS/EN 15305:2008 無損檢測 用 X 射線衍射分析殘余應(yīng)力的試驗(yàn)方法
  • DS/EN ISO 6145-4:2008 氣體分析 使用動(dòng)態(tài)體積法制備校準(zhǔn)氣體混合物 第4部分：連續(xù)注射器注射法
  • DS/EN 14242:2004 鋁和鋁合金 化學(xué)分析 電感耦合等離子體光發(fā)射光譜分析
  • DS/CEN/TR 10354:2012 黑色金屬材料的化學(xué)分析 硅鐵分析 X射線熒光光譜法測定Si和Al
  • DS/EN ISO 21587-2:2007 鋁硅酸鹽耐火制品的化學(xué)分析（替代 X 射線熒光法）第2部分：濕化學(xué)分析
  • DS/EN ISO 3815-1:2005 鋅和鋅合金 第1部分：用發(fā)射光譜法分析固體樣品

立陶宛標(biāo)準(zhǔn)局，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • LST EN 13925-3-2005 無損檢測 多晶和非晶材料的 X 射線衍射 第3部分：儀器
  • LST EN 13925-2-2004 無損檢測 多晶和非晶材料的 X 射線衍射 第2部分：程序
  • LST EN 13925-1-2004 無損檢測 多晶和非晶材料的 X 射線衍射 第1部分：一般原則
  • LST EN 15305-2008 無損檢測 用 X 射線衍射分析殘余應(yīng)力的試驗(yàn)方法
  • LST EN 15305-2008/AC-2009 無損檢測 用 X 射線衍射分析殘余應(yīng)力的試驗(yàn)方法
  • LST EN 14242-2005 鋁和鋁合金 化學(xué)分析 電感耦合等離子體光發(fā)射光譜分析
  • LST EN ISO 6145-4:2008 氣體分析 使用動(dòng)態(tài)體積法制備校準(zhǔn)氣體混合物 第4部分：連續(xù)注射器注射法（ISO 6145-4:2004）

AENOR，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • UNE-EN 13925-2:2004 無損檢測 多晶和非晶材料的 X 射線衍射 第2部分：程序
  • UNE-EN 13925-3:2006 無損檢測 多晶和非晶材料的 X 射線衍射 第3部分：儀器
  • UNE-EN 13925-1:2006 無損檢測 多晶和非晶材料的 X 射線衍射 第1部分：一般原則
  • UNE-EN 1330-11:2008 無損檢測 術(shù)語 第11部分：多晶和非晶材料的 X 射線衍射中使用的術(shù)語
  • UNE-EN 15305:2010 無損檢測 用 X 射線衍射分析殘余應(yīng)力的試驗(yàn)方法
  • UNE-EN ISO 6145-4:2008 氣體分析 使用動(dòng)態(tài)體積法制備校準(zhǔn)氣體混合物 第4部分：連續(xù)注射器注射法（ISO 6145-4:2004）

美國電氣電子工程師學(xué)會(huì)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • IEEE 759-1984 半導(dǎo)體X射線能譜分析器的試驗(yàn)程序

英國標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會(huì)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • BS ISO 17867:2015 粒徑分析. 小角X射線散射
  • BS ISO 20289:2018 表面化學(xué)分析 水的全反射X射線熒光分析
  • BS ISO 13067:2020 微束分析 電子背散射衍射 平均晶粒尺寸的測量
  • BS ISO 17867:2020 粒度分析 小角 X 射線散射 (SAXS)
  • DD ISO/TS 13762:2001 粒度分析 小角X射線散射法
  • BS DD ISO/TS 13762:2002 粒徑分析.小角度X射線散射法
  • 19/30365236 DC BS ISO 13067 微束分析 電子背散射衍射 平均晶粒尺寸的測量
  • BS ISO 13424:2013 表面化學(xué)分析.X射線光譜.薄膜分析報(bào)表
  • BS ISO 10810:2019 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南
  • BS ISO 10810:2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析指南
  • BS ISO 16258-2:2015 工作場所空氣. 使用X射線衍射法分析可吸入石英. 間接分析法
  • 15/30292710 DC BS ISO 19214 透射電子顯微鏡測定線狀晶體生長方向的指南
  • PD ISO/TS 18507:2015 表面化學(xué)分析 全反射 X 射線熒光光譜在生物和環(huán)境分析中的應(yīng)用
  • BS ISO 16087:2013 外科植入物. 骨科植入物評估倫琴射線立體攝影測量分析
  • BS PD ISO/TS 18507:2015 表面化學(xué)分析. 全反射X射線熒光光譜法在生物和環(huán)境分析中的使用
  • BS 4314-1:1968 氣體物理分析裝置規(guī)范.第1部分:工業(yè)用紅外線氣體分析器
  • BS ISO 20203:2006 鋁生產(chǎn)用碳素材料.煅燒焦炭.用X射線衍射法測定煅燒石油焦炭的晶體粒度
  • BS ISO 18554:2016 表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進(jìn)行分析的X射線的意外降解的識(shí)別, 評估和修正程序
  • BS ISO 23749:2022 微束分析 電子背散射衍射 鋼中奧氏體的定量測定
  • BS EN 15305:2008 無損檢驗(yàn).使用X射線衍射分析剩余應(yīng)力的試驗(yàn)方法
  • BS 3156-11.5:1996 燃?xì)夥治?非制造氣體法.在線分析系統(tǒng)的性能評估
  • BS ISO 24173:2009 微束分析.使用電子反向散射體衍射的方位測量準(zhǔn)則
  • BS EN 14242:2004 鋁和鋁合金.化學(xué)分析.感應(yīng)耦合等離子體光學(xué)輻射光譜分析
  • BS EN ISO 21587-2:2007 硅酸鋁耐熔制品的化學(xué)分析(可選擇X射線熒光法).濕化學(xué)分析
  • BS ISO 17470:2014 微束分析. 電子探針顯微分析. 采用波長分散X射線光譜測定法的定性點(diǎn)分析指南
  • BS ISO 29581-2:2010 水泥.試驗(yàn)方法.用X射線熒光法的化學(xué)分析
  • BS ISO 23703:2022 微束分析 通過電子背散射衍射（EBSD）評估奧氏體不銹鋼機(jī)械損傷的取向差分析指南
  • 22/30444828 DC BS EN 14242 鋁和鋁合金 化學(xué)分析 電感耦合等離子體光發(fā)射光譜分析
  • 21/30398224 DC BS ISO 23749 微束分析 電子背散射衍射 鋼中奧氏體的定量測定
  • BS ISO 16129:2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 X 射線光電子能譜儀日常性能評估程序
  • BS EN 12698-2:2007 和碳化硅耐熔制品結(jié)合的氮化物的化學(xué)分析.射線衍射(XRD)法
  • BS EN ISO 10058-2:2009 菱鎂礦和白云石耐火制品的化學(xué)分析（可選X射線熒光法） 濕化學(xué)分析
  • BS EN ISO 10058-2:2008 菱鎂礦和白云石耐火制品的化學(xué)分析(可選X射線熒光法).濕化學(xué)分析
  • BS 6870-3:1989 鋁礦石分析.第3部分:采用波長色散式X射線熒光法對多元素分析的方法
  • BS ISO 16258-1:2015 工作場所空氣. 使用X射線衍射法分析可吸入石英. 直接過濾法
  • BS ISO 15472:2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子分光計(jì).能量等級的校準(zhǔn)
  • 21/30395106 DC BS ISO 23703 微束分析 通過電子背散射衍射(EBSD)評估奧氏體不銹鋼機(jī)械損傷的取向差分析指南
  • BS ISO 22489:2007 微光束分析.電子探針微量分析.用波長色散X-射線光譜測量法作塊狀樣品的定量點(diǎn)分析
  • BS ISO 22489:2016 微光束分析.電子探針微量分析.用波長色散X-射線光譜測量法作塊狀樣品的定量點(diǎn)分析

工業(yè)和信息化部，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • YS/T 1178-2017 鋁渣物相分析X射線衍射法
  • YB/T 172-2020 硅磚定量相分析 X射線衍射法
  • YS/T 1344.3-2020 摻錫氧化銦粉化學(xué)分析方法 第3部分：物相分析 X射線衍射分析法
  • HG/T 5831-2021 化工用在線氣體質(zhì)譜分析儀
  • YB/T 4144-2019 建立和控制原子發(fā)射光譜化學(xué)分析曲線規(guī)則
  • YS/T 1160-2016 工業(yè)硅粉定量相分析 二氧化硅含量的測定 X射線衍射K值法
  • YS/T 273.17-2020 冰晶石化學(xué)分析方法和物理性能測定方法 第17部分：元素含量的測定 電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法

RU-GOST R，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-電子，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • SJ 20719-1998 碲鎘汞晶體X值的X-射線熒光法測定方法
  • SJ 50033/155-2002 半導(dǎo)體分立器件.3DG252型硅微波線性晶體管.詳細(xì)規(guī)范
  • SJ/Z 3206.13-1989 半導(dǎo)體材料發(fā)射光譜分析方法通則

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-能源，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

IT-UNI，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • UNI 6966-1971 通過X射線的衍射進(jìn)行多晶體中的極面圖形數(shù)量測定

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-黑色冶金，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-有色金屬，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • YS/T 273.14-2008 冰晶石化學(xué)分析方法和物理性能測定方法 14部分:X射線熒光光譜分析法測定元素含量
  • YS/T 273.11-2006 冰晶石化學(xué)分析方法和物理性能測定方法.第11部分：x射線熒光光譜分析法測定硫含量
  • YS/T 273.15-2012 冰晶石化學(xué)分析方法和物理性能測定方法 第15部分：X射線熒光光譜分析（壓片）法測定元素含量
  • YS/T 869-2013 4A沸石化學(xué)成分分析方法 X射線熒光法

美國國家標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會(huì)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

臺(tái)灣地方標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-核工業(yè)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-衛(wèi)生，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • WS/T 117-1999 X、γ、β射線和電子束所致眼晶體劑量估算規(guī)范

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-電力，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • DL/T 1151.22-2012 火力發(fā)電廠垢和腐蝕產(chǎn)物分析方法.第22部分：X-射線熒光光譜和X-射線衍射分析

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-建材，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

IN-BIS，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • IS 4570 Pt.8-1985 晶體單元支架規(guī)范 第8部分金屬、焊接、三線晶體單元支架 DK 型
  • IS 4570 Pt.7-1985 晶體單元支架規(guī)范 第7部分微型、金屬、焊封、雙線晶體單元支架類型 DJ
  • IS 4570 Pt.12-1989 晶體單元支架規(guī)范 第12部分微型、金屬、冷焊、雙線晶體單元支架類型 EB
  • IS 4570 Pt.5-1984 晶體單元支架規(guī)范 第5部分 ftfiETAL、焊料密封、雙線晶體單元支架類型 BF、EF/1 和 BG、BG 1
  • IS 12803-1989 X射線熒光光譜儀分析水硬性水泥的方法

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-化工，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • HG/T 6149-2023 加氫催化劑及其載體中二氧化硅晶相含量的測定 X射線衍射法

CZ-CSN，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

衛(wèi)生部國家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • GBZ 115-2002 X射線衍射和熒光分析儀衛(wèi)生防護(hù)標(biāo)準(zhǔn)

美國國防后勤局，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • DLA SMD-5962-07218 REV A-2008 單片硅超高頻NPN-PNP組合晶體管陣列耐輻射線性微電路
  • DLA DSCC-DWG-85019 REV E-2008 3比特的可編程活動(dòng)延遲線,與16 PIN 及3比特的晶體管.晶體管邏輯電路兼容,并與發(fā)射器邏輯耦合
  • DLA SMD-5962-00521 REV E-2008 單片硅互補(bǔ)開關(guān)場效應(yīng)晶體管驅(qū)動(dòng),耐輻射數(shù)字線性微電路
  • DLA SMD-5962-96521 REV B-2005 抗輻射互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體三重3輸入晶體管兼容硅單片電路線型微電路
  • DLA SMD-5962-96523 REV B-2005 抗輻射互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體三重3輸入晶體管兼容硅單片電路線型微電路
  • DLA SMD-5962-96517 REV D-2007 抗輻射互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體六角倒相器晶體管兼容輸入 硅單片電路線型微電路
  • DLA SMD-5962-95683 REV B-2000 高速抗輻射互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體四重2輸入晶體管兼容硅單片電路線型微電路
  • DLA SMD-5962-95745 REV D-2004 高速抗輻射互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體,非倒相八角母線接收器,晶體管兼容輸入硅單片電路線型微電路
  • DLA SMD-5962-95721 REV B-2000 高速抗輻射互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體三重3輸入,晶體管兼容輸入硅單片電路線型微電路
  • DLA SMD-5962-95732 REV B-2000 高速抗輻射互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體六角倒相器晶體管兼容輸入硅單片電路線型微電路
  • DLA SMD-5962-95734 REV B-2000 高速抗輻射互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體三重3輸入晶體管兼容輸入硅單片電路線型微電路
  • DLA SMD-5962-95735 REV B-2000 高速抗輻射互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體8輸入與非晶體管兼容輸入硅單片電路線型微電路
  • DLA SMD-5962-95736 REV B-2000 高速抗輻射互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體四重2輸入晶體管兼容輸入硅單片電路線型微電路
  • DLA SMD-5962-95760 REV B-2000 高速抗輻射互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體,雙重4輸入晶體管兼容輸入硅單片電路線型微電路
  • DLA SMD-5962-95765 REV B-2000 高速抗輻射互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體三重3輸入晶體管兼容輸入硅單片電路線型微電路
  • DLA SMD-5962-95766 REV A-1998 高速抗輻射互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體雙重4輸入晶體管兼容輸入硅單片電路線型微電路

國際電工委員會(huì)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • IEC 60444-7:2004 石英晶體元件參數(shù)的測量.第7部分:石英晶體元件的放射性和頻率下降測量
  • IEC 62495:2011 核監(jiān)測儀表.利用微型X-射線管的便攜式X-射線熒光分析設(shè)備
  • IEC 60679-3:1989 石英晶體受控振蕩器.第3部分:標(biāo)準(zhǔn)輪廓和引線連接

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-航天，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • QJ 963-1986 α－ＡＬ2Ｏ3含量的Ｘ射線定量分析方法

中國團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • T/CPIA 0048.1-2022 產(chǎn)線用晶體硅標(biāo)準(zhǔn)光伏電池制作指南 第1部分：同質(zhì)結(jié)晶體硅光伏電池
  • T/CPIA 0048.2-2023 產(chǎn)線用晶體硅標(biāo)準(zhǔn)光伏電池制作指南 第2部分：異質(zhì)結(jié)晶體硅光伏電池

廣東省標(biāo)準(zhǔn)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-石油，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • SY/T 5163-1995 沉積巖粘土礦物相對含量X射線衍射分析方法
  • SY/T 5163-2010 沉積巖中黏土礦物和常見非黏土礦物X射線衍射分析方法

未注明發(fā)布機(jī)構(gòu)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

國家軍用標(biāo)準(zhǔn)-總裝備部，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • GJB 9331-2018 固體火箭發(fā)動(dòng)機(jī)工業(yè)射線層析成像(CT)檢測要求
  • GJB 9763-2020 固體火箭發(fā)動(dòng)機(jī)燃燒室高能X 射線層析成像檢測方法

ES-UNE，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • UNE-EN 14242:2023 鋁和鋁合金 化學(xué)分析 電感耦合等離子體發(fā)射光譜分析
  • UNE 53934:2016 塑料 X 射線熒光法分析聚合物材料中的元素

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-地質(zhì)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • DZ/T 0370-2021 便攜式X射線熒光現(xiàn)場分析技術(shù)規(guī)程

RO-ASRO，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • STAS 11487-1989 在Ｘ射線范圍內(nèi)玻璃熒光性的化學(xué)分析

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-醫(yī)藥，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • YY 0832.1-2011 X射線放射治療立體定向及計(jì)劃系統(tǒng).第1部分：頭部X射線放射治療立體定向及計(jì)劃系統(tǒng)

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-海關(guān)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • HS/T 12-2006 滑石、綠泥石、菱鎂石混合相的定量分析 X 射線衍射儀法

工業(yè)和信息化部/國家能源局，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

國家能源局，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • SY/T 5163-2018 沉積巖中黏土礦物和常見非黏土礦物X射線衍射分析方法

行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-商品檢驗(yàn)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • SN/T 2079-2008 不銹鋼及合金鋼分析方法X-射線熒光光譜法

IEEE - The Institute of Electrical and Electronics Engineers@ Inc.，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • IEEE 1260-1996 電力線 AM 廣播再輻射的預(yù)測 測量 和分析指南
  • IEEE 1260-2018 電力線 AM 廣播再輻射的預(yù)測 測量 和分析指南

WRC - Welding Research Council，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

美國焊接協(xié)會(huì)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • WRC 259:1980 PVRC 焊接試樣 155、202、203 和 251J 的射線照相評估分析

美國機(jī)動(dòng)車工程師協(xié)會(huì)，關(guān)于射線晶體分析的標(biāo)準(zhǔn)

  • SAE ARP1533B-2013 航空器發(fā)動(dòng)機(jī)氣體發(fā)射物的分析和評價(jià)規(guī)程


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