x射線光電子能譜 制樣
本專題涉及x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)有152條。
國際標(biāo)準(zhǔn)分類中，x射線光電子能譜 制樣涉及到分析化學(xué)、電子元器件綜合、光學(xué)和光學(xué)測量、電學(xué)、磁學(xué)、電和磁的測量、無損檢測、長度和角度測量、光學(xué)設(shè)備、耐火材料、核能工程、半導(dǎo)體材料、犯罪行為防范、建筑材料、醫(yī)學(xué)科學(xué)和保健裝置綜合。
在中國標(biāo)準(zhǔn)分類中，x射線光電子能譜 制樣涉及到質(zhì)譜儀、液譜儀、能譜儀及其聯(lián)用裝置、基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、標(biāo)準(zhǔn)化、質(zhì)量管理、電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器、綜合測試系統(tǒng)、光學(xué)測試儀器、化學(xué)、電化學(xué)、熱化學(xué)、光學(xué)式分析儀器、電子測量與儀器綜合、耐火材料綜合、同位素與放射源綜合、、犯罪鑒定技術(shù)、物理學(xué)與力學(xué)。
德國標(biāo)準(zhǔn)化學(xué)會，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- DIN ISO 16129:2020-11 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 X射線光電子能譜儀日常性能評估程序
- DIN ISO 16129 E:2020-01 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜-評估X射線光電子能譜儀的日常性能的程序
- DIN ISO 16129:2020 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜-評估X射線光電子能譜儀的日常性能的程序(ISO 16129-2018); 英文文本
- DIN ISO 16129 E:2020 文件草案 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜 X 射線光電子能譜儀日常性能評估程序（ISO 16129:2018） 英文文本
- DIN ISO 15472 E:2019-09 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜儀 能標(biāo)校準(zhǔn)
- DIN ISO 15472:2020-05 表面化學(xué)分析 - X 射線光電子能譜儀 - 能量標(biāo)度校準(zhǔn) (ISO 15472:2010)
- DIN ISO 15472:2020 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜儀 能標(biāo)校準(zhǔn)（ISO 15472:2010）；英文文本
- DIN 51418-1:1996 X光射線光譜測定法.X光射線散射和X光射線熒光分析(RFA).第1部分:定義和基本原理
英國標(biāo)準(zhǔn)學(xué)會，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- BS ISO 16129:2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能光譜學(xué).X射線光電子能譜儀日常性能評估規(guī)程
- BS ISO 16129:2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 X 射線光電子能譜儀日常性能評估程序
- BS ISO 10810:2019 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南
- BS ISO 21270:2004(2010) 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度標(biāo)度線性度
- BS ISO 21270:2004 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度尺度的線性
- BS ISO 19830:2015 表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的最低報告要求
- BS ISO 10810:2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析指南
- BS ISO 18516:2006(2010) 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率的測定
- BS ISO 15472:2001 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀 能量標(biāo)度的校準(zhǔn)
- BS PD ISO/TR 19319:2003 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 分析儀橫向分辨率、分析面積和樣品面積的測定
- BS ISO 14701:2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 氧化硅厚度的測量
- BS ISO 18554:2016 表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進(jìn)行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序
- BS ISO 19318:2021 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 報告用于電荷控制和電荷校正的方法
- BS ISO 19318:2004 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 報告用于電荷控制和電荷校正的方法
- BS ISO 15470:2004 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 所選儀器性能參數(shù)的描述
- BS ISO 14701:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).二氧化硅厚度測量
- BS ISO 18516:2006 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測定
- BS ISO 21270:2005 表面化學(xué)分析.X射線光電子和俄歇電子光譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性度
- BS ISO 16243:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)
國際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- ISO 16129:2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能光譜學(xué).X射線光電子能譜儀日常性能評估規(guī)程
- ISO 16129:2018 表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜 - 評估X射線光電子能譜儀日常性能的方法
- ISO 21270:2004 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性
- ISO 10810:2019 表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜分析指南
- ISO 19830:2015 表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的最低報告要求
- ISO 10810:2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).分析導(dǎo)則
- ISO 15472:2001/DAmd 1 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜儀 能量校準(zhǔn) 修改件1
- ISO/CD TR 18392:2023 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜 確定背景的程序
- ISO 15470:2017 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜. 選擇儀器性能參數(shù)說明
- ISO 14701:2018 表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜 - 氧化硅厚度的測量
- ISO 18554:2016 表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進(jìn)行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序
- ISO 13424:2013 表面化學(xué)分析——X射線光電子能譜；薄膜分析結(jié)果的報告
- ISO 14701:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.二氧化硅厚度的測量
- ISO 18516:2006 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測定
- ISO/TR 19319:2003 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測
- ISO 16243:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)
- ISO/TR 18392:2005 表面化學(xué)分析.X射線光電子光譜學(xué).背景測定程序
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-電子，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- SJ/T 10458-1993 俄歇電子能譜術(shù)和X射線光電子能譜術(shù)的樣品處理標(biāo)準(zhǔn)導(dǎo)則
- SJ/T 10714-1996 檢查X射線光電子能譜儀工作特性的標(biāo)準(zhǔn)方法
GSO，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- BH GSO ISO 16129:2015 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 評估X射線光電子能譜儀日常性能的程序
- OS GSO ISO 16129:2014 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 評估X射線光電子能譜儀日常性能的程序
- GSO ISO 10810:2013 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析說明
- BH GSO ISO 10810:2016 表面化學(xué)分析X射線光電子能譜分析指南
- OS GSO ISO 10810:2013 表面化學(xué)分析X射線光電子能譜分析指南
- BH GSO ISO 21270:2016 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度標(biāo)度的線性
- GSO ISO 21270:2014 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度標(biāo)度的線性
- OS GSO ISO 21270:2014 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度標(biāo)度的線性
- BH GSO ISO 19830:2017 表面化學(xué)分析 電子能譜 X射線光電子能譜峰擬合的最低報告要求
- GSO ISO 19830:2016 表面化學(xué)分析 電子能譜 X射線光電子能譜峰擬合的最低報告要求
- OS GSO ISO 18516:2013 表面化學(xué)分析俄歇電子能譜和X射線光電子能譜橫向分辨率的測定
- BH GSO ISO 18516:2016 表面化學(xué)分析俄歇電子能譜和X射線光電子能譜橫向分辨率的測定
- GSO ISO 18516:2013 表面化學(xué)分析俄歇電子能譜和X射線光電子能譜橫向分辨率的測定
- BH GSO ISO 15472:2016 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀 能量標(biāo)度的校準(zhǔn)
- OS GSO ISO 18554:2017 表面化學(xué)分析 電子能譜 在接受X射線光電子能譜分析的材料中識別、估計和校正X射線意外降解的程序
- GSO ISO 18554:2017 表面化學(xué)分析 電子能譜 在接受X射線光電子能譜分析的材料中識別、估計和校正X射線意外降解的程序
- OS GSO ISO 19318:2013 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 電荷控制和電荷校正方法的報告
- GSO ISO 14701:2013 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 氧化硅厚度測量
- GSO ISO/TR 18392:2013 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 確定背景的程序
- BH GSO ISO 19318:2016 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 電荷控制和電荷校正方法的報告
- OS GSO ISO 13424:2015 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果報告
- BH GSO ISO 13424:2017 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果報告
- GSO ISO 13424:2015 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果報告
- GSO ISO 16129:2014 表面化學(xué)分析 納米 X 射線光譜 評估納米 X 射線光譜日常性能的程序
- GSO ISO 19318:2013 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 用于控制電荷控制和電荷校正的方法的報告
- GSO ISO 15470:2013 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 有用性能參數(shù)的描述和選擇
- OS GSO ISO 16243:2015 表面化學(xué)分析 在 X 射線光電子能譜 (XPS) 中記錄和報告數(shù)據(jù)
- BH GSO ISO 16243:2017 表面化學(xué)分析 在 X 射線光電子能譜 (XPS) 中記錄和報告數(shù)據(jù)
- GSO ISO 16243:2015 表面化學(xué)分析 在 X 射線光電子能譜 (XPS) 中記錄和報告數(shù)據(jù)
美國材料與試驗協(xié)會，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- ASTM E1015-90 報告X射線光電子能譜中光譜的方法
- ASTM E995-16 俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)指南
- ASTM E996-04 俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
- ASTM E996-10 俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報告數(shù)據(jù)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
- ASTM E2108-16 X射線光電子能譜儀的電子結(jié)合能量標(biāo)尺的標(biāo)準(zhǔn)實踐
- ASTM E996-10(2018) 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報告的標(biāo)準(zhǔn)實施規(guī)程
- ASTM E996-19 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報告的標(biāo)準(zhǔn)實施規(guī)程
- ASTM E996-94(1999) 俄歇電子能譜分析和X射線光電子光譜分析數(shù)據(jù)報告的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程
- ASTM E1523-97 X射線光電子能譜法中電荷控制和電荷參考技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南
- ASTM E1523-15 X射線光電子能譜法中電荷控制和電荷參考技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南
- ASTM E1523-24 X射線光電子能譜法中電荷控制和電荷參考技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南
- ASTM E995-11 在俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中應(yīng)用背景消除技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南
- ASTM E2735-14(2020) 用于選擇X射線光電子能譜所需校準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)指南
- ASTM E1217-11(2019) 用于確定在俄歇電子能譜儀和一些X射線光電子能譜儀中檢測到的信號的樣品區(qū)域的標(biāo)準(zhǔn)實踐
- ASTM E1217-11 用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測定影響檢測信號樣品面積的標(biāo)準(zhǔn)操作規(guī)程
- ASTM E1217-00 用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測定影響檢測信號的樣品面積的標(biāo)準(zhǔn)實施規(guī)范
- ASTM E1217-05 用X射線光電子光譜儀和俄歇電子光譜儀測定影響檢測信號的樣品面積的標(biāo)準(zhǔn)實施規(guī)范
- ASTM E902-94(1999) 檢查X射線光電子能譜儀工作特性的標(biāo)準(zhǔn)實施規(guī)程
- ASTM E1523-03 X射線光電子譜測定中電荷控制和電荷參照技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)指南
- ASTM E1588-10e1 掃描電子顯微術(shù)/能量散射X射線光譜法射擊殘留物分析的標(biāo)準(zhǔn)指南
- ASTM E995-04 螺旋電子光譜法和X射線光電光譜法中減去背景技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南
- ASTM E1523-09 X射線光電子譜測定中電荷控制和電荷參照技術(shù)的標(biāo)準(zhǔn)指南
SCC，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- 11/30230635 DC BS ISO 16129 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜法 X射線光電子能譜儀日常性能評估程序
- 09/30191895 DC BS ISO 10810 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南
- 10/30212265 DC BS ISO 14701 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 氧化硅厚度測量
國家質(zhì)檢總局，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- GB/T 25184-2010 X射線光電子能譜儀鑒定方法
- GB/T 19500-2004 X射線光電子能譜分析方法通則
- GB/T 31470-2015 俄歇電子能譜與X射線光電子能譜測試中確定檢測信號對應(yīng)樣品區(qū)域的通則
- GB/T 21006-2007 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度標(biāo)的線性
- GB/T 30704-2014 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南
- GB/T 28632-2012 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.橫向分辨率測定
- GB/T 18873-2008 生物薄試樣的透射電子顯微鏡-X射線能譜定量分析通則
- GB/T 18873-2002 生物薄試樣的透射電子顯微鏡-X射線 能譜定量分析通則
- GB/T 22571-2008 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜儀.能量標(biāo)尺的校準(zhǔn)
- GB/Z 32490-2016 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 確定本底的程序
- GB/T 25185-2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.荷電控制和荷電校正方法的報告
- GB/T 17507-1998 電子顯微鏡X射線能譜分析生物薄標(biāo)樣通用技術(shù)條件
- GB/T 17507-2008 透射電子顯微鏡X射線能譜分析生物薄標(biāo)樣的通用技術(shù)條件
- GB/T 28892-2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.選擇儀器性能參數(shù)的表述
- GB/T 28892-2024 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 選擇儀器性能參數(shù)的表述
- GB/T 29556-2013 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率、分析面積和分析器所能檢測到的樣品面積的測定
韓國科技標(biāo)準(zhǔn)局，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- KS D ISO 21270-2020 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜和俄歇電子能譜儀 強(qiáng)度標(biāo)度線性度
- KS D ISO 21270:2005 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強(qiáng)度標(biāo)的線性
- KS D ISO 21270-2005(2020) 表面化學(xué)分析X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀強(qiáng)度標(biāo)度的線性
- KS D ISO 15472-2003(2023) 表面化學(xué)分析-X射線光電子能譜儀-能量刻度的校準(zhǔn)
- KS D ISO 19318-2005(2020) 表面化學(xué)分析X射線光電子能譜電荷控制和電荷校正方法報告
- KS D ISO 19319-2005(2020) 表面化學(xué)分析－俄歇電子能譜和X射線光電子能譜－分析儀橫向分辨率、分析面積和樣品面積的測定
- KS D ISO 19318-2020 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 電荷控制和電荷校正方法的報告
- KS D ISO 15470-2005(2020) 表面化學(xué)分析X射線光電子能譜儀部分性能參數(shù)說明
- KS D ISO 15470-2020 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 所選儀器性能參數(shù)說明
- KS L 3316-1988 耐火制品X射線熒光光譜分析方法
- KS L 3316-1998 耐火制品X射線熒光光譜分析方法
- KS L 3316-2014(2019) 耐火制品X射線熒光光譜分析方法
- KS D ISO 19319:2005 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測
- KS D ISO 19319-2020 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率、分析面積和分析儀觀察到的樣品面積的測定
- KS L 3316-2014 耐火制品X射線熒光光譜分析方法
- KS L 3316-2019 耐火制品X射線熒光光譜分析方法
國家市場監(jiān)督管理總局、中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- GB/T 41073-2021 表面化學(xué)分析 電子能譜 X射線光電子能譜峰擬合報告的基本要求
- GB/T 36401-2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果的報告
澳大利亞標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- AS ISO 15472:2006 表面化學(xué)分析．X射線光電子光譜法．能量標(biāo)度的校準(zhǔn)
- AS ISO 19319:2006 表面化學(xué)分析．Augur電子能譜法和X射線光電子光譜法．分析員對橫向分辨率；分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測
- AS ISO 15470:2006(R2016) 表面化學(xué)分析 X射線光電子光譜法 選定儀器性能參數(shù)的描述
- AS ISO 19318:2006 表面化學(xué)分析．X射線光電子光譜學(xué)．電荷控制和電荷調(diào)整用報告法
- AS ISO 15470:2006 表面化學(xué)分析．X射線光電子光譜法．選定儀器性能參數(shù)的描述
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局、中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- GB/T 22571-2017 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀 能量標(biāo)尺的校準(zhǔn)
法國標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- NF X21-071:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析用導(dǎo)則
- NF X21-061:2008 表面化學(xué)分析.螺旋電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測定
- NF ISO 16243:2012 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜(XPS)中的數(shù)據(jù)記錄和報告
- NF X21-073*NF ISO 16243:2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)
美國給水工程協(xié)會，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
- AWWA 51768 利用 X 射線光電子能譜法識別低壓反滲透膜失效
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)-機(jī)械，關(guān)于x射線光電子能譜 制樣的標(biāo)準(zhǔn)
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