雜質濃度

本專題涉及雜質濃度 的標準有10條。

國際標準分類中，雜質濃度 涉及到半導體分立器件、半導體材料、光電子學、激光設備、非金屬礦。

在中國標準分類中，雜質濃度 涉及到、半導體發(fā)光器件、半金屬。

中國團體標準，關于雜質濃度 的標準

• T/CASAS 010-2019 氮化鎵材料中痕量雜質濃度及分布的二次離子質譜檢測方法
• T/CASAS 009-2019 半絕緣碳化硅材料中痕量雜質濃度及分布的二次離子質譜檢測方法

，關于雜質濃度 的標準

• CSN 68 4155-1989 凝結物和沉淀產生的雜質濃度
• CSN 68 4154-1989 離子交換法對測定雜質濃度
• CSN 68 4153-1989 提取法雜質濃度
• CSN 68 4151-1987 蒸餾法對雜質濃度的測定
• CSN 40 4009-1974 放射質制備過程中通過發(fā)射光譜法測定重金屬和雜質濃度

行業(yè)標準-電子，關于雜質濃度 的標準

• SJ 20635-1997 半絕緣砷化鎵剩余雜質濃度微區(qū)試驗方法

日本工業(yè)標準調查會，關于雜質濃度 的標準

• JIS H0615-1996 用光致發(fā)光光譜法測定硅晶體中雜質濃度的試驗方法

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可能用到的儀器設備