x射線光電譜儀

本專題涉及x射線光電譜儀的標(biāo)準(zhǔn)有3條。

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類中，x射線光電譜儀涉及到分析化學(xué)、光學(xué)和光學(xué)測(cè)量。

在中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類中，x射線光電譜儀涉及到基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法、實(shí)驗(yàn)室基礎(chǔ)設(shè)備。

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化組織，關(guān)于x射線光電譜儀的標(biāo)準(zhǔn)

• ISO 15472-2010 表面化學(xué)分析.X射線光電譜儀.能量刻度表校準(zhǔn)
• ISO 15472-2001 表面化學(xué)分析 X射線光電譜儀 能量刻度表校準(zhǔn)

法國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化協(xié)會(huì)，關(guān)于x射線光電譜儀的標(biāo)準(zhǔn)

• NF X21-055-2006 表面化學(xué)分析.X射線光電譜儀.能量刻度表校準(zhǔn)

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