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x射線能譜分析和x射線光電子能譜

本專題涉及x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準有194條。

國際標準分類中，x射線能譜分析和x射線光電子能譜涉及到分析化學(xué)、光學(xué)和光學(xué)測量、長度和角度測量、無損檢測、詞匯、光學(xué)設(shè)備、黑色金屬、核能工程、電子元器件綜合、鋼鐵產(chǎn)品、建筑材料、金屬礦、半導(dǎo)體材料、金屬材料試驗、電站綜合、醫(yī)學(xué)科學(xué)和保健裝置綜合、有色金屬、耐火材料、輻射測量、鐵合金、電學(xué)、磁學(xué)、電和磁的測量、天文學(xué)、大地測量學(xué)、地理學(xué)、涂料配料、犯罪行為防范。

在中國標準分類中，x射線能譜分析和x射線光電子能譜涉及到質(zhì)譜儀、液譜儀、能譜儀及其聯(lián)用裝置、基礎(chǔ)標準與通用方法、電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器、化學(xué)、鋼鐵與鐵合金分析方法、同位素與放射源綜合、標準化、質(zhì)量管理、鐵礦、、金屬化學(xué)分析方法綜合、光學(xué)測試儀器、實驗室基礎(chǔ)設(shè)備、電力試驗技術(shù)、耐火材料綜合、電化學(xué)、熱化學(xué)、光學(xué)式分析儀器、重金屬及其合金分析方法、半導(dǎo)體分立器件綜合、稀有輕金屬及其合金、電子測量與儀器綜合、顏料、建材產(chǎn)品綜合、涂料基礎(chǔ)標準與通用方法、化學(xué)助劑基礎(chǔ)標準與通用方法、犯罪鑒定技術(shù)。


德國標準化學(xué)會，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

  • DIN ISO 16129:2020-11 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 X射線光電子能譜儀日常性能評估程序
  • DIN ISO 16129 E:2020-01 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜-評估X射線光電子能譜儀的日常性能的程序
  • DIN ISO 16129:2020 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜-評估X射線光電子能譜儀的日常性能的程序(ISO 16129-2018); 英文文本
  • DIN ISO 15472 E:2019-09 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜儀 能標校準
  • DIN 51418-1:1996 X光射線光譜測定法.X光射線散射和X光射線熒光分析(RFA).第1部分:定義和基本原理
  • DIN 51418-1:2008 X射線光譜測定法.X射線散射和X射線熒光分析(XRF).第1部分:定義和基本原理
  • DIN ISO 15472:2020-05 表面化學(xué)分析 - X 射線光電子能譜儀 - 能量標度校準 (ISO 15472:2010)
  • DIN 51418-1:2008-08 射線光譜測定 X 射線發(fā)射和 X 射線熒光分析(XRF)第1部分：定義和基本原理
  • DIN 51418-2:2015 X射線光譜分析.X射線散射和X射線熒光分析(RFA).第2部分:定義和測量、校準及評估的基本原則
  • DIN 51418-2:1996 X射線光譜分析.X射線散射和X射線熒光分析(RFA).第2部分:定義和測量、校準及評估的基本原則
  • DIN ISO 15472:2020 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜儀 能標校準（ISO 15472:2010）；英文文本
  • DIN 51418-2:2015-03 X 射線光譜測定 X 射線發(fā)射和 X 射線熒光分析(XRF)第2部分：測量、校準和結(jié)果評估的定義和基本原則

英國標準學(xué)會，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

  • BS ISO 16129:2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 X 射線光電子能譜儀日常性能評估程序
  • BS ISO 16129:2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能光譜學(xué).X射線光電子能譜儀日常性能評估規(guī)程
  • BS ISO 10810:2019 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南
  • BS ISO 10810:2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析指南
  • BS ISO 21270:2004(2010) 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強度標度線性度
  • BS ISO 21270:2004 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強度尺度的線性
  • BS ISO 18516:2006(2010) 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率的測定
  • BS ISO 19830:2015 表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的最低報告要求
  • BS ISO 18554:2016 表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序
  • BS ISO 14701:2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 氧化硅厚度的測量
  • BS ISO 16243:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)
  • BS ISO 14701:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).二氧化硅厚度測量
  • BS ISO 17109:2022 表面化學(xué)分析 深度剖析 使用單層和多層薄膜的 X 射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜濺射深度分析中濺射速率的測定方法...
  • 21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1 表面化學(xué)分析 深度剖析 使用單一和……的 X 射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜濺射深度分析中濺射速率測定方法
  • BS ISO 18516:2006 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測定
  • BS ISO 21270:2005 表面化學(xué)分析.X射線光電子和俄歇電子光譜儀.強度標的線性度
  • BS ISO 17109:2015 表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法
  • BS ISO 13424:2013 表面化學(xué)分析.X射線光譜.薄膜分析報表

國際標準化組織，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

  • ISO 16129:2018 表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜 - 評估X射線光電子能譜儀日常性能的方法
  • ISO 16129:2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能光譜學(xué).X射線光電子能譜儀日常性能評估規(guī)程
  • ISO 10810:2019 表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜分析指南
  • ISO 10810:2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).分析導(dǎo)則
  • ISO 21270:2004 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀.強度標的線性
  • ISO 19830:2015 表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的最低報告要求
  • ISO 18554:2016 表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序
  • ISO 13424:2013 表面化學(xué)分析——X射線光電子能譜；薄膜分析結(jié)果的報告
  • ISO/CD TR 18392:2023 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜 確定背景的程序
  • ISO 15470:2017 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜. 選擇儀器性能參數(shù)說明
  • ISO 14701:2018 表面化學(xué)分析 - X射線光電子能譜 - 氧化硅厚度的測量
  • ISO 16243:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)
  • ISO 15472:2001 表面化學(xué)分析 X射線光電譜儀 能量刻度表校準
  • ISO 14701:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.二氧化硅厚度的測量
  • ISO 15472:2010 表面化學(xué)分析.X射線光電譜儀.能量刻度表校準
  • ISO 18516:2006 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測定
  • ISO/TR 18392:2005 表面化學(xué)分析.X射線光電子光譜學(xué).背景測定程序
  • ISO/TR 19319:2003 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測
  • ISO 17109:2015 表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法

GSO，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

  • OS GSO ISO 16129:2014 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 評估X射線光電子能譜儀日常性能的程序
  • BH GSO ISO 16129:2015 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 評估X射線光電子能譜儀日常性能的程序
  • GSO ISO 10810:2013 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析說明
  • OS GSO ISO 10810:2013 表面化學(xué)分析X射線光電子能譜分析指南
  • BH GSO ISO 10810:2016 表面化學(xué)分析X射線光電子能譜分析指南
  • GSO ISO 21270:2014 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強度標度的線性
  • BH GSO ISO 21270:2016 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強度標度的線性
  • OS GSO ISO 21270:2014 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強度標度的線性
  • OS GSO ISO 18554:2017 表面化學(xué)分析 電子能譜 在接受X射線光電子能譜分析的材料中識別、估計和校正X射線意外降解的程序
  • GSO ISO 16129:2014 表面化學(xué)分析 納米 X 射線光譜 評估納米 X 射線光譜日常性能的程序
  • GSO ISO 18554:2017 表面化學(xué)分析 電子能譜 在接受X射線光電子能譜分析的材料中識別、估計和校正X射線意外降解的程序
  • OS GSO ISO 18516:2013 表面化學(xué)分析俄歇電子能譜和X射線光電子能譜橫向分辨率的測定
  • BH GSO ISO 18516:2016 表面化學(xué)分析俄歇電子能譜和X射線光電子能譜橫向分辨率的測定
  • GSO ISO 18516:2013 表面化學(xué)分析俄歇電子能譜和X射線光電子能譜橫向分辨率的測定
  • BH GSO ISO 15472:2016 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀 能量標度的校準
  • OS GSO ISO 13424:2015 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果報告
  • GSO ISO 13424:2015 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果報告
  • BH GSO ISO 13424:2017 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果報告
  • BH GSO ISO 19830:2017 表面化學(xué)分析 電子能譜 X射線光電子能譜峰擬合的最低報告要求
  • GSO ISO 19830:2016 表面化學(xué)分析 電子能譜 X射線光電子能譜峰擬合的最低報告要求
  • GSO ISO 15472:2013 表面化學(xué)分析 X射線光譜 能量計校準
  • GSO ISO 14701:2013 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 氧化硅厚度測量
  • GSO ISO/TR 18392:2013 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 確定背景的程序
  • GSO ISO 15470:2013 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 有用性能參數(shù)的描述和選擇
  • BH GSO ISO 16243:2017 表面化學(xué)分析 在 X 射線光電子能譜 (XPS) 中記錄和報告數(shù)據(jù)
  • OS GSO ISO 16243:2015 表面化學(xué)分析 在 X 射線光電子能譜 (XPS) 中記錄和報告數(shù)據(jù)
  • GSO ISO 16243:2015 表面化學(xué)分析 在 X 射線光電子能譜 (XPS) 中記錄和報告數(shù)據(jù)
  • GSO ISO 24237:2013 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 強度標度的重復(fù)性和穩(wěn)定性
  • OS GSO ISO 19318:2013 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 電荷控制和電荷校正方法的報告
  • BH GSO ISO 19318:2016 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 電荷控制和電荷校正方法的報告

國家質(zhì)檢總局，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

  • GB/T 19500-2004 X射線光電子能譜分析方法通則
  • GB/T 30704-2014 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南
  • GB/T 21006-2007 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀 強度標的線性
  • GB/T 25184-2010 X射線光電子能譜儀鑒定方法
  • GB/T 28632-2012 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.橫向分辨率測定
  • GB/T 22571-2008 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜儀.能量標尺的校準
  • GB/Z 32490-2016 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 確定本底的程序
  • GB/T 17359-1998 電子探針和掃描電鏡X射線能譜定量分析通則
  • GB/T 28892-2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.選擇儀器性能參數(shù)的表述
  • GB/T 28892-2024 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 選擇儀器性能參數(shù)的表述
  • GB/T 28633-2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.強度標的重復(fù)性和一致性
  • GB/T 18873-2008 生物薄試樣的透射電子顯微鏡-X射線能譜定量分析通則
  • GB/T 18873-2002 生物薄試樣的透射電子顯微鏡-X射線 能譜定量分析通則
  • GB/T 17362-1998 黃金飾品的掃描電鏡X射線能譜分析方法
  • GB/T 17362-2008 黃金制品的掃描電鏡X射線能譜分析方法
  • GB/T 42360-2023 表面化學(xué)分析 水的全反射X射線熒光光譜分析
  • GB/T 25185-2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.荷電控制和荷電校正方法的報告
  • GB/T 29556-2013 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率、分析面積和分析器所能檢測到的樣品面積的測定
  • GB/T 17507-2008 透射電子顯微鏡X射線能譜分析生物薄標樣的通用技術(shù)條件
  • GB/T 28893-2024 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 測定峰強度的方法和報告結(jié)果所需的信息

SCC，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

  • 11/30230635 DC BS ISO 16129 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜法 X射線光電子能譜儀日常性能評估程序
  • DIN ISO 16129 E:2020 文件草案 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜 X 射線光電子能譜儀日常性能評估程序（ISO 16129:2018） 英文文本
  • 09/30191895 DC BS ISO 10810 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南
  • BS ISO 15472:2001 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀 能量標度的校準
  • ISO 15472:2001/DAmd 1 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜儀 能量校準 修改件1
  • DIN 51418-1 E:2007 X 射線光譜測定 X 射線發(fā)射和 X 射線熒光分析 (XRF) 第1部分：定義和基本原理 草案
  • BS ISO 15470:2004 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 所選儀器性能參數(shù)的描述
  • BS PD ISO/TR 19319:2003 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 分析儀橫向分辨率、分析面積和樣品面積的測定
  • 10/30212265 DC BS ISO 14701 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 氧化硅厚度測量
  • 10/30199175 DC BS ISO 16243 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜（XPS）數(shù)據(jù)的記錄和報告
  • ISO 17109:2015/DAmd 1 表面化學(xué)分析 深度分析 X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜濺射深度分析中使用單層和多層薄膜的濺射速率測定方法 A...
  • DIN 51418-2 E:2014 X 射線光譜測定 X 射線發(fā)射和 X 射線熒光分析 (XRF) 第2部分：測量、校準和結(jié)果評估的定義和基本原則 草案

韓國科技標準局，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

美國材料與試驗協(xié)會，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

  • ASTM E996-94(1999) 俄歇電子能譜分析和X射線光電子光譜分析數(shù)據(jù)報告的標準規(guī)程
  • ASTM E1621-21 X射線發(fā)射光譜分析標準指南
  • ASTM E995-16 俄歇電子光譜和X射線光電子能譜背景減法技術(shù)標準指南
  • ASTM E996-10(2018) 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報告的標準實施規(guī)程
  • ASTM E996-19 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中數(shù)據(jù)報告的標準實施規(guī)程
  • ASTM E996-04 俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報告數(shù)據(jù)的標準規(guī)程
  • ASTM E996-10 俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報告數(shù)據(jù)的標準規(guī)程
  • ASTM E1588-10e1 掃描電子顯微術(shù)/能量散射X射線光譜法射擊殘留物分析的標準指南
  • ASTM E1621-05 X射線發(fā)散光譜分析標準指南
  • ASTM E2108-16 X射線光電子能譜儀的電子結(jié)合能量標尺的標準實踐
  • ASTM E995-11 在俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中應(yīng)用背景消除技術(shù)的標準指南
  • ASTM D5381-93(2003) 顏料和填充劑的X射線螢光(XRF)光譜分析
  • ASTM D5381-93(1998) 顏料和填充劑的X射線螢光(XRF)光譜分析
  • ASTM E2735-14(2020) 用于選擇X射線光電子能譜所需校準的標準指南

法國標準化協(xié)會，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

  • NF X21-071:2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析用導(dǎo)則
  • NF X21-073*NF ISO 16243:2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)
  • NF ISO 16243:2012 表面化學(xué)分析 X 射線光電子能譜(XPS)中的數(shù)據(jù)記錄和報告
  • NF X21-055:2006 表面化學(xué)分析.X射線光電譜儀.能量刻度表校準
  • NF X21-061:2008 表面化學(xué)分析.螺旋電子光譜法和X射線光電子光譜法.橫向分辨率測定

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局、中國國家標準化管理委員會，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

  • GB/T 22571-2017 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜儀 能量標尺的校準

KR-KS，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

國家市場監(jiān)督管理總局、中國國家標準化管理委員會，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

  • GB/T 41073-2021 表面化學(xué)分析 電子能譜 X射線光電子能譜峰擬合報告的基本要求
  • GB/T 36401-2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果的報告
  • GB/T 41064-2021 表面化學(xué)分析 深度剖析 用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜、俄歇電子能譜和二次離子質(zhì)譜中深度剖析濺射速率的方法

澳大利亞標準協(xié)會，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

  • AS ISO 15472:2006 表面化學(xué)分析．X射線光電子光譜法．能量標度的校準
  • AS ISO 15470:2006(R2016) 表面化學(xué)分析 X射線光電子光譜法 選定儀器性能參數(shù)的描述
  • AS ISO 15470:2006 表面化學(xué)分析．X射線光電子光譜法．選定儀器性能參數(shù)的描述

日本工業(yè)標準調(diào)查會，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

行業(yè)標準-核工業(yè)，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

行業(yè)標準-電子，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

  • SJ/T 10458-1993 俄歇電子能譜術(shù)和X射線光電子能譜術(shù)的樣品處理標準導(dǎo)則
  • SJ/T 10714-1996 檢查X射線光電子能譜儀工作特性的標準方法

RU-GOST R，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

中國團體標準，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

  • T/CSTM 01199-2024 多層金屬薄膜 層結(jié)構(gòu)測量分析方法 X射線光電子能譜

行業(yè)標準-黑色冶金，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

行業(yè)標準-電力，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

  • DL/T 1151.22-2012 火力發(fā)電廠垢和腐蝕產(chǎn)物分析方法.第22部分：X-射線熒光光譜和X-射線衍射分析

行業(yè)標準-機械，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

工業(yè)和信息化部/國家能源局，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

美國電氣電子工程師學(xué)會，關(guān)于x射線能譜分析和x射線光電子能譜的標準

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